摘 要 |
本发明一种电路检测的方法包含了以下步骤:提供一具有一导线(CONDUCTIVE LINE)的基底;并形成一金属层于上述至少一导线上,进而加强导线以及邻接区域的对比,以利电路的检测,上述方法还包含了移除金属层,此金属层是通过硝酸、过氧化氢以及氟化硼酸(FLUORIDE BORIC ACID)的混合物而加以移除,上述金属包含了银、镍或锡,沉积金属(DEPOSIT METAL)可通过内部扩散(INTER DIFFUSION)而移除,并于下方的导线中形成金属间化合物(INTERMETALLIC COMPOUNDS),例如CU6SN5。 |
申请人 |
育霈科技股份有限公司 |
地址 |
台湾省新竹县 |
发明(设计)人 |
胡玉山 胡迪群 |
主分类号 |
G01R31/308(2006.01)I |
分类号 |
G01R31/308(2006.01)I G01R31/311(2006.01)I G01N21/956(2006.01)I |
法律状态 |
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本专利更多信息
| 主权项 | |
| 公开(公告)号 | 101251578 |
| 公开(公告)日 | 2008-08-27 |
| 专利代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 |
| 代理人 | 周国城 |
| 颁证日 | |
| 优先权 | 2007.2.20 US 11/707,920 |
| 国际申请 | |
| 国际公布 | |
| 进入国家日期 | |

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