一种用于乙烯装置裂解气压缩机的阻垢剂及其使用方法
无权-未缴年费
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Antisludging agent used in cracking gas compressor in an ethylene apparatus and its using method
申请号：200410058095.9 申请日：2004-08-13
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摘要：本发明涉及一种用于乙烯装置裂解气压缩机的阻垢剂及其使用方法。本发明的阻垢剂由亚磷酸酯类化合物、芳香族胺类化合物与有机溶剂组成，使用时以一定浓度加入洗油或洗水中即可。本发明在阻垢效果好的前提下，克服了现有阻垢剂成本高、粘度大等缺陷。 |
|---|---|
| Abstract： The invention relates to an antisludging agent used in cracking gas compressor in an ethylene apparatus and its using method, wherein the antisludging agent comprises phosphite ester compounds, aromatic amine compounds and organic solvents. and the application includes charging into washing oil or washing water by a finite concentration. The invention has the advantages of good anti-sludging effect, reduced cost of antisludging agent, and low viscosity. | |
| 申请人： 北京斯伯乐科学技术研究院 | |
| Applicant： BEIJING SBL SCIENCE AND TECHNO[CN] | |
| 地址： 100013北京市********(隐藏) | |
| 发明(设计)人： 刘宽胜 何宏晓 刘志玲 高志礼 刘志远 张丽欣 刘志兴 史正光 刘计 王忆萍 | |
| Inventor： LIU KUANSHENG HE[CN] | |
| 主分类号： C02F5/10(2006.01) | |
| 分类号： C02F5/10(2006.01) C02F5/14(2006.01) C02F5/12(2006.01) | |
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- 法律状态
| 2010-11-03 | 未缴年费专利权终止IPC(主分类):C02F 5/10申请日:20040813授权公告日:20070321 |
| 2007-03-21 | 授权 |
| 2006-04-12 | |
| 2006-02-15 | 公开 |
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
- 其他信息
| 主权项 | 1.一种用于乙烯装置裂解气压缩机的阻垢剂，由有效成份A组份、 B组份及有机溶剂组成，其特征是：A组份与B组份的质量比为 0.1～10∶1，其中： A组份选自亚磷酸酯类化合物中的一种； B组分为草酰胺、N-亚硝酸二苯胺、吗啉、草酰胺与N-亚 硝酸二苯胺的混合物或吗啉与N-亚硝酸二苯胺的混合物； 有机溶剂为C5-C10的烃类，有机溶剂的用量使阻垢剂的运动 粘度在20℃时为1～2。 | ||||||||||||||||||
| 公开号 | 1305786C | ||||||||||||||||||
| 公开日 | 2007-03-21 | ||||||||||||||||||
| 专利代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | ||||||||||||||||||
| 代理人 | 霍京华 | ||||||||||||||||||
| 颁证日 | |||||||||||||||||||
| 优先权 |
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| 国际申请 | |||||||||||||||||||
| 国际公布 | |||||||||||||||||||
| 进入国家日期 | |||||||||||||||||||
- 专利对比文献
| 类型 | 阶段 | 文献号 | 公开日期 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
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Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
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