一种高铬耐磨铸铁玻璃模具及其铸造方法
无权-视为撤回

High-chromium wear-resisting cast-iron glass mold and casting method thereof

申请号：201310182098.2 申请日：2013-05-17

	摘要：本发明公开了一种高铬耐磨铸铁玻璃模具，包括以下质量百分比的组分：Cr0.8～1.3％、Ti0.15～0.35％、Mo0.2～0.4％、V0.08～0.15％、Mn0.55～0.90％、S＜0.03％、P＜0.02％、Si1.5～2.9％、其余为Fe和通常的杂质。通过上述方式，本发明提供了高铬耐磨铸铁玻璃模具及其铸造方法，在铸铁玻璃模具中，添加一定比例的Cr可以大大提高其耐磨性、抗氧化性及使用寿命，同时采用2次退火的方法，提高了铸铁玻璃模具的韧。
	Abstract： The invention discloses a high-chromium wear-resisting cast-iron glass mold. The mold contains the following components in percentage by mass: 0.8-1.3% of Cr, 0.15-0.35% of Ti, 0.2-0.4% of Mo, 0.08-0.15% of V, 0.55-0.90% of Mn, less than 0.03% of S, less than 0.02% of P, 1.5-2.9% of Si, and the balance of iron and common impurities. Due to the mode, the invention provides the high-chromium wear-resisting cast-iron glass mold and a casting method thereof. A certain ratio of Cr is added in the cast-iron glass mold so as to greatly enhance the wear resistance and the oxidation resistance of the mold and greatly prolong the service life of the mold; and meanwhile, the toughness of the cast iron glass mold is increased by means of annealing twice.
	申请人：苏州卡波尔模具科技有限公司
	Applicant： SUZHOU KABUL MOULD TECHNOLOGY CO LTD
	地址： 215500 江苏省苏州市常熟市********(隐藏)
	发明(设计)人：朱琼华
	Inventor： ZHU QIONGHUA
	主分类号： C22C37/10(2006.01)I
	分类号： C22C37/10(2006.01)I C21D1/26(2006.01)I C21D5/00(2006.01)I

法律状态

2015-08-12	发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):C22C 37/10申请公布日:20130814

2013-09-11	实质审查的生效IPC(主分类):C22C 37/10申请日:20130517

2013-08-14	公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

其他信息

主权项

一种高铬耐磨铸铁玻璃模具，其特征在于，包括以下质量百分比的组分：Cr 0.8～1.3％Ti 0.15～0.35％Mo 0.2～0.4％V 0.08～0.15％Mn 0.55～0.90％S ＜0.03％P ＜0.02％Si 1.5～2.9％其余为Fe和通常的杂质。

公开号

103243257A

公开日

2013-08-14

专利代理机构

苏州广正知识产权代理有限公司 32234

代理人

刘述生

颁证日

优先权

国别	优先权号	优先权日	类型

CN	201310182098	20130517	Y

国际申请

国际公布

进入国家日期

专利对比文献

类型	阶段	文献号	公开日期	涉及权利要求项	相关页数

Y	SEA	CN102828103A	20121219	1-8

Y	SEA	CN85102192A	19860917	5-8

A	SEA	JPS5672151A	19810616	1-8

Y	SEA	JPS52135820A	19771114	1-8

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Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
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Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
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Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。