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用于印刷具有大焦深的周期图案的方法和设备
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A method and apparatus for printing a periodic pattern with large depth of focus

申请号:201180043123.8 申请日:2011-07-05
CN201180043123
CN103080843A
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摘要:一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括:提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模;布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层;生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案,由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量,并且所述分量的叠加印刷所需图案,其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围,使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。
Abstract: A method for printing a desired pattern into a photosensitive layer that includes providing a mask bearing a pattern of linear features that are parallel to a first direction, arranging the layer parallel to and separated from said mask, generating substantially monochromatic light and illuminating the mask pattern with said light over a range of angles substantially in a plane parallel to said first direction, whereby the light of each angle of illumination transmitted by the mask forms a range of transversal intensity distributions between Talbot planes and forms a light-field component at the layer, and the superposition of said components prints the desired pattern, wherein the range of angles is selected in relation to the wavelength, the separation and the period so that the superposition of said components is substantially equivalent to an average of the range of transversal intensity distributions formed by light at one of the angles.
申请人: 尤利塔股份公司
Applicant: EULITHA AG
地址: 瑞士菲利根
发明(设计)人: F.克卢贝 C.戴斯 H.索拉克
Inventor: CLUBE FRANCIS; DAIS CHRISTIAN; SOLAK HARUN
主分类号: G03F7/20
分类号: G03F7/20
  • 法律状态
2015-11-25  授权
2013-06-05  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20110705
2013-05-01  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种用于向衬底上形成的光敏层中印刷线性特征的所需周期性图案的方法,该方法包括:a)提供掩模,所述掩模承载具有周期的与第一方向平行的线性特征的掩模图案,所述周期是所需图案的周期的两倍;b)与所述掩模基本上平行地并且用距所述掩模图案的间隔布置所述光敏层;c)以波长生成基本上单色光;并且d)在基本上在与所述第一方向平行的第一平面中的角度范围上用所述光照射所述掩模图案,由此所述掩模透射的在每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布范围并且在所述光敏层处形成光场分量,并且所述分量的叠加印刷所述所需图案;其中相对于所述波长、所述间隔和所述周期选择所述角度范围,使得所述分量的叠加基本上等同于光在所述照射角度之一形成的所述横向强度分布范围的平均。
公开号  103080843A
公开日  2013-05-01
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人  马永利 刘春元
颁证日  
优先权  2010.07.07 US 12/831,337
 
国别 优先权号 优先权日 类型
WO  PCT/IB2011/052977  20110705  PCT application claimed as a regional filing N 
US  12/831,337  20100707 
国际申请  2011-07-05 PCT/IB2011/052977
国际公布  2012-01-12 WO2012/004745 EN
进入国家日期  2013.03.07
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
SEA  US5869212A  19990209  1-21  全文 
SEA  CN101211803A  20080702  1-21  全文 
SEA  CN1214532A  19990421  1-21  全文 
SEA  JP2000068201A  20000303  1-21  全文 
SEA  EP0020132A2  19801210  1-21  全文 
SEA  US2697178A  19541214  1-21  全文 
SEA  CN101114134A  20080130  1-21  全文 
SEA  JP2006064968A  20060309  1-21  全文 
SEA  CN1794093A  20060628  1-21  全文 
SEA  CN101052921A  20071010  1-21  全文 
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数

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