浮雕画的制作方法、系统及浮雕画
无权-驳回
Method and system for preparing relief painting and relief painting
申请号：201210148308.1 申请日：2012-05-14
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摘要：本发明涉及装饰领域，具体为浮雕画的制作方法、系统及浮雕画，能够实现浮雕画的批量生产。浮雕画的制作方法包括：在原始材料上雕刻出浮雕画的模板，所述模板的凸面与基准面的落差值在1厘米以内；在该模板的凹凸表面上制作出模具；在该模具的基础上制作出粗坯；通过打印设备将画面打印在所述粗坯上，得到所述浮雕画的成品。浮雕画的制作系统，包括：模板制作装置，模具制作装置，粗坯制作装置，打印装置。如上所述的浮雕画，其上的凸面与基准面之间的落差值在1厘米范围内。 |
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| Abstract： The invention relates to the decoration field, in particular to a relief painting, and a method and a system for preparing the relief painting, so that batch production of relief paintings can be achieved. The method for preparing the relief painting comprises the following steps: carving a template of the relief painting on a primary material, wherein the falling value between a convex face and a standard face of the template is within 1 centimeter; preparing a mould on a convex-concave surface of the template; preparing a rough blank on the basis of the mould; and printing a picture on the rough blank by a printing device to obtain a finished product of the relief painting. The system for preparing the relief painting comprises a template preparation device, a mould preparation device, a rough blank preparation device and a printing device. For the relief painting, the falling value between the convex face and the standard face is within 1 centimeter. | |
| 申请人： 何菁 | |
| Applicant： JING HE | |
| 地址： 322000 浙江省金华市义乌市********(隐藏) | |
| 发明(设计)人： 何菁 | |
| Inventor： JING HE | |
| 主分类号： B44C5/04(2006.01)I | |
| 分类号： B44C5/04(2006.01)I B44C1/22(2006.01)I B44D2/00(2006.01)I | |
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- 法律状态
| 2015-04-01 | 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):B44C 5/04申请公布日:20121003 |
| 2012-11-28 | 实质审查的生效IPC(主分类):B44C 5/04申请日:20120514 |
| 2012-10-03 | 公开 |
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
- 其他信息
| 主权项 | 浮雕画的制作方法，其特征在于，包括：在原始材料上雕刻出浮雕画的模板，所述模板的凸面与基准面的落差值在1厘米以内；在该模板的凹凸表面上制作出模具；在该模具的基础上制作出粗坯；通过打印设备将画面打印在所述粗坯上，得到所述浮雕画的成品。 | ||||||||||||||||||
| 公开号 | 102700348A | ||||||||||||||||||
| 公开日 | 2012-10-03 | ||||||||||||||||||
| 专利代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | ||||||||||||||||||
| 代理人 | 李世喆 | ||||||||||||||||||
| 颁证日 | |||||||||||||||||||
| 优先权 |
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| 国际申请 | |||||||||||||||||||
| 国际公布 | |||||||||||||||||||
| 进入国家日期 | |||||||||||||||||||
- 专利对比文献
| 类型 | 阶段 | 文献号 | 公开日期 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
| X | SEA | CN1198991A | 19981118 | 10 | 说明书第1-2页，附图1-2 |
| Y | SEA | CN1273185A | 20001115 | 1-9 | 说明书第1-2页 |
| Y | SEA | CN102101405A | 20110622 | 1-9 | 说明书第[0003]-[0054]段，附图1-4 |
| A | SEA | CN1083785A | 19940316 | 1-10 | 全文 |
| A | SEA | CN1240722A | 20000112 | 1-10 | 全文 |
| R | SEA | CN202573601U | 20121205 | 6-10 | 权利要求1-4,6 |
注：不保证该信息的有效性、完整性、准确性，以上信息也不具有任何效力，仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核，使用该信息的一切后果由用户自行负责。
Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
- 期刊对比文献
| 类型 | 阶段 | 期刊文摘名称 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
- 书籍对比文献
| 类型 | 阶段 | 书名 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
- 专利主分类号
