液晶显示器件的制造方法
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Method for fabricating liquid crystal display device
申请号：200710126009.7 申请日：2007-06-29
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摘要：本发明公开了一种液晶显示器件的制造方法,包括:提供具有像素部的第一基板;在其中形成有栅极的第一基板上顺序层叠栅绝缘层、半导体层和第一导电层;用半色调掩模在第一导电层上形成第一PR图案,该第一PR图案在将要形成晶体管的沟道区域上构图为相对较薄;用第一PR图案对第一导电层进行构图;通过在第一PR图案上进行第一灰化工序来形成与第一导电层外围对齐的第二PR图案;使用第二PR图案对半导体层进行构图;使用第二PR图案形成源极/漏极;在第一基板上形成钝化层和像素电极;将第一基板粘附到第二基板;在第一基板和第二基板之间形成液晶层。 |
|---|---|
| Abstract： Disclosed is a method for fabricating a liquid crystal display device comprising: providing a first substrate having a pixel portion and a pad portion; sequentially laminating a gate insulating layer, a semiconductor layer and a first conductive layer on the first substrate where a gate electrode is formed; forming a first PR pattern, which is patterned relatively thin on a channel region of a transistor to be formed, on the first conductive layer with a half-tone mask; patterning the first conductive layer with the first PR pattern; forming a second PR pattern which is aligned with an outer periphery of the first conductive layer by performing a first ashing process on the first PR pattern; patterning the semiconductor layer using the second PR pattern; forming source/drain electrodes using the second PR pattern; forming a passivation layer and a pixel electrode on the first substrate; attaching a second substrate to the first substrate; and forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate. | |
| 申请人： LG.菲利浦LCD株式会社 | |
| Applicant： LG PHILIPS LCD CO LTD[KR] | |
| 地址： 韩国首尔 | |
| 发明(设计)人： 金雄植 李旺宣 | |
| Inventor： SIK KIM WOONG[KR] | |
| 主分类号： G02F1/1362(2006.01)I | |
| 分类号： G02F1/1362(2006.01)I G03F7/00(2006.01)I H01L21/00(2006.01)I | |
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- 法律状态
| 2009-07-01 | 授权 |
| 2008-02-27 | 实质审查的生效 |
| 2008-01-02 | 公开 |
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
- 其他信息
| 主权项 | 1.一种液晶显示器件的制造方法，包括： 提供具有像素部的第一基板； 在其中构图有栅极的第一基板上顺序层叠栅绝缘层、半导体层、导电层和 光刻胶薄膜； 通过使用半色调掩模将光刻胶薄膜构图来形成光刻胶薄膜图案； 使用光刻胶薄膜图案作为掩模将导电层和半导体层构图； 通过第一灰化工序部分地去除光刻胶薄膜图案； 通过使用剩余的光刻胶薄膜图案作为掩模将导电层构图以形成源极/漏 极； 在第一基板上形成钝化层和像素电极； 将第一基板粘附到第二基板；以及 在第一基板和第二基板之间形成液晶层。 | ||||||||||||||||||
| 公开号 | 101097381A | ||||||||||||||||||
| 公开日 | 2008-01-02 | ||||||||||||||||||
| 专利代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | ||||||||||||||||||
| 代理人 | 徐金国 梁挥 | ||||||||||||||||||
| 颁证日 | |||||||||||||||||||
| 优先权 | 2006.6.30 KR 10-2006-0061475
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| 国际申请 | |||||||||||||||||||
| 国际公布 | |||||||||||||||||||
| 进入国家日期 | |||||||||||||||||||
- 专利对比文献
| 类型 | 阶段 | 文献号 | 公开日期 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
注：不保证该信息的有效性、完整性、准确性，以上信息也不具有任何效力，仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核，使用该信息的一切后果由用户自行负责。
Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
- 期刊对比文献
| 类型 | 阶段 | 期刊文摘名称 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
- 书籍对比文献
| 类型 | 阶段 | 书名 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
- 附加信息
- 专利主分类号
G 物理
G02 光学G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元G02F1/1362 有源矩阵寻址单元