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在样品上生成周期性和/或准周期性图形的系统和方法
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A system and a method for generating periodic and/or quasi-periodic pattern on a sample

申请号:200580036281.5 申请日:2005-10-13
CN200580036281
CN101052921A
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摘要:本发明的目的在于提供一种以成本有效的方式得到具有在5-100NM范围内的周期的周期性和准周期性图形的系统和方法。当然,该系统对周期在该范围之外的图形也具有一般适用性。该目的通过本发明来实现,本发明公开了一种用于通过使用干涉光刻技术在样品上产生周期性和/或准周期性图形的系统,该系统包括:A)光子源;B)具有与所希望的图形相应的周期性或准周期性图形的掩模;所述掩模被设置在与光子源的第一距离处或被设置在例如瞄准仪、收集器、反射镜、透镜、滤光器和光阑的中间光学元件之后;C)用于保持样品的样品保持器在光子源的相对侧被设置在与掩模的第二距离处,由此该第二距离被选择成在这样的范围内,在该范围内强度分布基本上是固定的和距离不变的,或者第二距离被改变以便在样品表面上得到所希望的平均强度分布。
Abstract: It is the aim of this invention to provide a system and a method to achieve periodic and quasi-periodic patterns with periods in the 5-100 nm range in a cost effective way. Of course, the system has also general applicability to patterns periods outside this range. This aim is achieved by the present invention which discloses a system for generating periodic and/or quasi-periodic pattern on a sample by using an interference lithography technique; the system comprising: a) a photon source; b) a mask having a periodic or quasi-periodic pattern that corresponds to the desired pattern; said mask being disposed at a first distance from the photon source or after intermediate optical elements such as collimators, collectors, mirrors, lenses, filters and apertures; c) a sample holder for holdingthe sample being disposed in a second distance from the mask on the side opposite to the photon source, thereby the second distance is chosen to be in a range where the intensity distribution is substantially stationary and distance-invariant or the second distance is varied to obtain a desired average intensity distribution on the sample surface.
申请人: 保罗·谢勒学院
Applicant: SCHERRER INST PAUL[CH]
地址: 瑞士菲利根
发明(设计)人: H·H·索拉克
Inventor: SOLAK HARUN H[CH]
主分类号: G03F7/20(2006.01)I
分类号: G03F7/20(2006.01)I
  • 法律状态
2013-03-27  授权
2011-01-19  专利申请权的转移IPC(主分类):G03F 7/20变更事项:申请人变更前权利人:保罗·谢勒学院变更后权利人:尤利塔股份公司变更事项:地址变更前权利人:瑞士菲利根变更后权利人:瑞士菲利根登记生效日:20101210
2007-12-05  
2007-10-10  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于通过使用干涉光刻技术在样品(S)上产生周期性和/ 或准周期性图形的系统,该系统包括: a)光子源(P); b)具有与所希望的图形相应的周期性或准周期性图形的掩模 (M);所述掩模(M)被设置在与所述光子源(P)的第一距离处或被 设置在例如瞄准仪、收集器、反射镜、透镜、滤光器和光阑的中间光 学元件之后; c)用于保持所述样品(S)的样品保持器在所述光子源(P)的相 对侧被设置在与所述掩模(M)的第二距离处,由此所述第二距离被选 择成在这样的范围内,在该范围内强度分布基本上是固定的和距离不 变的,或者所述第二距离被改变以便在样品表面上得到所希望的平均 强度分布。
公开号  101052921A
公开日  2007-10-10
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  卢江 魏军
颁证日  
优先权  2004.10.22 EP 04025105.0;2005.2.16 EP 05003271.3
 
国别 优先权号 优先权日 类型
WO  WO2005EP10986  20051013  PCT application claimed as a regional filing N 
EP  04025105.0  20041022 
EP  05003271.3  20050216 
国际申请  2005-10-13 PCT/EP2005/010986
国际公布  2006-05-04 WO2006/045439 英
进入国家日期  2007.04.23
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
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A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
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