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具有优异薄膜特性和磁性能的晶粒取向电磁钢板和其生产方法以及该方法中使用的脱碳退火设备
有权
阅读授权文献

申请号:98800664.2 申请日:1998-01-09
摘要:涉及一种具有极好的薄膜特性及铁损特性的晶粒取向电磁钢板,它含至多 0.005wt%C、2.0—7.0wt%的Si,余量为铁和不可避免的杂质;该钢板表面上有镁橄橄石为主要成分的氧化物膜,其上又形成有绝缘薄膜,其中的氧化物膜的量为每面1—4g/m2,由从所述氧化物膜上的辉光放电谱分析(GDS分析)测得Si的峰值强度为Al的至少1/2,而Si的峰位深度为从所述氧化物膜表面到Al的峰位的深度约1/10以内,经过20mm曲率半径的弯曲试验所述氧化物膜不发生剥离的比率y(%)与铁损特性W(W/kg)满足下式:y(%)≥-122.45t+112.55,其中t为钢板厚度(mm),W(W/kg)≤2.37t+0.280;t为钢板厚度(mm)。本发明还涉及生产所述钢板的方法及其所使用的脱碳退火设备。
申请人: 新日本制铁株式会社
地址: 日本东京
发明(设计)人: 小菅健司 持永季志雄 难波英一 立花伸夫 石井信也 八木直树
主分类号: C21D8/12
分类号: C21D8/12 C23C8/14 H01F1/16
  • 法律状态
2002-07-31  授权
1999-09-01  
1999-08-25  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种具有优异薄膜特性和磁性能的晶粒取向电磁钢板, 包括至多0.005wt%的C,2.0-7.0wt%的Si,其余为Fe和不可避免 的杂质, 在表面上形成了主要含镁橄榄石的氧化物膜,在该氧化物膜上又形 成了绝缘层, 其中,所述氧化物膜的量为每面1-4g/m2,从氧化物膜表面上辉 光放电谱分析(GDS分析)得到的Si峰值强度为Al的至少1/2,并且 从氧化物膜表面到Si峰位的深度为Al的相应深度的1/10之内, 并且在进行曲率半径为20mm的弯曲试验时,所述氧化物膜不发生 剥离的比例y(%)满足下式(1): y(%)≥-122.45t+112.55????????????????????(1) 其中t代表钢板厚度,以毫米计,铁损特性W(W/kg)满足下式(2): W(W/kg)≤2.37t+0.280??????????????????????(2) 其中t代表钢板厚度,以毫米计。
公开号  1226935
公开日  1999-08-25
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人  段承恩
颁证日  
优先权  1997.4.16 JP 99323/97; 1997.8.18 JP 221826/97
国际申请  PCT/JP98/00052 98.1.9
国际公布  WO98/46803 日 98.10.22
进入国家日期  1999.01.19