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将光学镜片底料设定于支座上的机构
无权-未缴年费

申请号:98800650.2 申请日:1998-05-18
摘要:于溅射系统中由溅射法将抗反射膜涂层到光学镜片两侧上的抗反射膜。在用于进行这种溅射的真空处理室(22)中,多块光学镜片底料(11)沿横向放置到设定于真空气氛中可转动的底料支座(26)上。这些底料用环形保持工具(52,152)嵌装于支座(26)中形成的孔(26a)内且以其凹面冲上。工具(52)的高度当底料(11)的镜片边缘厚度大时大于此边缘的高度但不大于2mm。工具(152)的与光学镜片底料(lll)一起放置的部分当此底料的镜片边缘厚度小时呈锥形。
申请人: 保谷株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 嘉村齐 葭原雅章 神谷肇
主分类号: G02B7/02
分类号: G02B7/02 B29D11/00 G02B1/10 G02B3/00 C23C14/50
  • 法律状态
2009-07-22  专利权的终止(未缴年费专利权终止)授权公告日:2007.12.12
2007-12-12  授权
2000-11-22  
1999-08-25  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.在有多块光学镜片底料横向地设置于在真空气氛中可旋转的支座 (26)上的薄膜淀积系统中,薄膜是由溅射淀积到所述光学镜片底料的上、 下表面上,并有用来将所述光学镜片底料设定到此支座(26)上的机构,特 征在于: 所述光学镜片底料(11)是通过采用环形保持工具(52,152)而嵌装到上 述支座(26)中形成的孔(26a)内,且以其凹面朝上;同时 上述环形保持工具(52)的高度当所述光学镜片底料(11)的镜片边缘的 厚度很大时大于此镜片底料(11)的边缘高度但不超过2mm。
公开号  1226973
公开日  1999-08-25
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人  刘志平
颁证日  
优先权  1997.5.16 JP 143177/97
国际申请  PCT/JP98/02179 98.5.18
国际公布  WO98/52083 日 98.11.19
进入国家日期  1999.01.15