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制造喷墨头的微致动器的方法
无权-未缴年费
权利转移

申请号:98125864.6 申请日:1998-12-22
摘要:一种制造用于喷墨头的微致动器的方法,利用主要用于制造半导体器件的构图工艺,容易形成具有要求图形的氧化物压电元件和上电极。该方法包括以下步骤:依次层叠振动板、下电极、氧化物压电片、和电极层;构图电极层,从而形成要求图形的上电极;并利用上电极作掩模,用腐蚀工艺构图氧化物压电片,从而形成要求图形的氧化物压电元件。
申请人: 三星电机株式会社
地址: 韩国京畿道
发明(设计)人: 金日
主分类号: B41J2/16
分类号: B41J2/16
  • 法律状态
2011-03-23  未缴年费专利权终止IPC(主分类):B41J 2/16申请日:19981222授权公告日:20021218终止日期:20100122
2002-12-18  授权
2002-05-15  <变更事项>申请人<变更前权利人>三星电机株式会社<变更后权利人>三星电子株式会社<登记生效日>2002.03.18
2002-05-15  <变更事项>地址<变更前权利人>韩国京畿道<变更后权利人>韩国京畿道<登记生效日>2002.03.18
1999-08-25  公开
1999-05-26  
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种制造用于喷墨头的微致动器的方法,包括以下步骤: 依次在与存储室板形成为一体的振动板上层叠下电极和氧化物压 电片,所说存储室板具有多个均匀隔开的储液室; 在所说氧化物压电片的上表面上涂敷第一光刻胶膜,并去掉所说第 一光刻胶膜的不必要部分; 在所说第一光胶膜的所说不必要部分去除后,在包括保留于所说氧 化物压电片上的所说第一光刻胶膜的上表面和所说氧化物压电片的暴 露上表面部分的所得结构的整个暴露上表面上,涂敷要求厚度的电极 层; 利用漂洗液去掉所说保留的第一光刻胶膜,同时去掉位于所说保留 的第一光刻胶膜上的那部分所说电极层,由此形成上电极; 在形成所说上电极后,在包括所说上电极的上表面和所说氧化物压 电片的暴露上表面部分的所得结构的整个表面上涂敷第二光刻胶膜; 去掉未覆盖所说上电极的所说第二光刻胶膜的不必要部分,使所说 第二光刻胶膜的各保留部分分别具有大于与之有关的上电极的面积; 利用所说上电极上保留的所说第二光刻胶膜作掩模,用腐蚀剂构图 所说氧化物压电片,从而形成氧化物压电元件;及 去掉所说第二光刻胶膜。
公开号  1226478
公开日  1999-08-25
专利代理机构  中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人  谢丽娜
颁证日  
优先权  1998.2.19 KR 5096/98
国际申请  
国际公布  
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