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用于半导体衬底的清洗水溶液
无权-届满
权利转移

申请号:97196992.2 申请日:1997-07-31
摘要:本发明涉及一种半导体衬底的清洗水溶液,该清洗液主要由碱、过氧化氢以及配位剂组成,其中以杂环烃作配位剂,该环的碳原子数至少为9最高为18和至少三个杂原子,例如氮、氧、硫。在含氮的穴状配体情况下,这些杂环化合物还能带官能反应性基团和/或氮原子间的脂族桥(笼形结构)。
申请人: 西门子公司
地址: 联邦德国慕尼黑
发明(设计)人: A·马丁 W·胡布 B·科尔贝森
主分类号: H01L21/306
分类号: H01L21/306 C11D7/50
  • 法律状态
2017-08-25  专利权有效期届满 IPC(主分类):C11D 7/50申请日:19970731授权公告日:20031224
2012-04-04  专利权的转移IPC(主分类):C11D 7/50变更事项:专利权人变更前权利人:西门子公司变更后权利人:英飞凌科技股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:德国慕尼黑变更后权利人:德意志联邦共和国瑙伊比贝尔格市登记生效日:20120223
2003-12-24  授权
1999-09-01  
1999-08-25  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种用于半导体衬底的清洗水溶液,其组成为: a)有机碱或无机碱, b)过氧化氢,以及 c)配位剂, 其特征在于,以冠醚作配位剂,其通式为: 其中X为氧或硫,m、n、o=2或3,p=1或2。
公开号  1226998
公开日  1999-08-25
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  卢新华 温宏艳
颁证日  
优先权  1996.8.2 DE 19631363.5
国际申请  PCT/DE97/01623 97.7.31
国际公布  WO98/06127 德 98.2.12
进入国家日期  1999.02.02