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抗真菌剂及其制备方法和中间体
无权-届满
权利转移

申请号:97126356.6 申请日:1995-02-06
摘要:以下通式所示的化合物或其盐,其中间体或中间体的盐,以及其制备方法和适于作为抗真菌剂的药物组合物:$其中R1和R2表示卤原子或氢原子;R3表示氢原子或低级烷基;1、r和m为0或1;A为N或CH;W表示芳香环或其稠环;X表示另一个芳香环、链烷二基、链烯二基或链炔二基;Y为-S-等;Z表示氢原子等。
申请人: 卫材株式会社
地址: 日本东京
发明(设计)人: 内藤俊彦 畑桂 加耒由美子 鹤冈明彦 塚田格 柳泽学 丰泽逸生 奈良一诚
主分类号: C07D417/06
分类号: C07D417/06 C07D417/14 C07D277/28 C07D277/24 C07D249/08 C07D213/70 C07D303/12 C07D413/06 C07D513/04 C07F7/18 C07C69/708 C07C49/84 C07C43/164 //C07D417/06,24908,27728
  • 其他信息
主权项  1.一种制备下式所示化合物或其酸加成盐的方法: 其中W为取代的噻唑环;R1和R2彼此相同或不同且各自表示一个卤 原子或氢原子;R3为一个氢原子或低级烷基;r和m可相同或不同且 各自表示0或1;A为N或CH;X表示可具有一个或多个取代基和 可包含一个或多个选自N、S和O的杂原子的芳香环,可具有一个或 多个取代基的链烷二基,可具有一个或多个取代基的链烯二基,或可 具有一个或多个取代基的链炔二基;Y为由-S-、>SO、>SO2、 >C=S、>C=O、-O-、>N-R6、>C=N-OR6或-(CH2)j-表示的基团,其中 R6为氢原子或低级烷基,j为1-4的整数,并且Z代表氢原子、卤 原子、低级烷基、卤代低级烷基、低级烷氧基、卤代低级烷氧基、羟 基、硫羟基、硝基、氰基、低级链烷酰基、可具有一个或多个取代基 的苯基、可具有一个或多个取代基的苯氧基、可具有一个或多个取代 基的咪唑基、可具有一个或多个取代基的三唑基、可具有一个或多个 取代基的四唑基或可具有一个或多个取代基的氨基,除非当r=m= 0时,R3为甲基、且Z为氢原子。它包括将下式所示化合物: 其中A、R1、R2和R3定义同上,与下式所示化合物进行反应: 其中Hal为Br或Cl,且X、Y、Z、r和m定义同上。
公开号  1226555
公开日  1999-08-25
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  王其灏
颁证日  
优先权  1994.2.7 JP 33268/94; 1994.7.5 JP 174894/94; 1994.8.10 JP 208203/94; 1994.12.9 JP 306467/94
国际申请  
国际公布  
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