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涂敷硬碳膜的基底及其制造方法
无权-视为撤回

申请号:97118532.8 申请日:1997-09-08
摘要:揭示了一种涂敷硬碳膜的基底,其中在基底和硬碳膜之间有一中间层,该中间层主要包括从Al、Cr、Sn、Co和B以及它们的氧化物、氮化物和碳化物构成的组中选出的至少一种材料。
申请人: 三洋电机株式会社
地址: 日本国大阪府
发明(设计)人: 堂本洋一 平野均 蔵本庆一 木山精一
主分类号: C23C16/26
分类号: C23C16/26 C23C16/02 C30B29/04
  • 法律状态
2003-11-26  
1999-06-02  
1998-05-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种涂敷硬碳膜的基底,其特征在于包括: 基底: 在所述基底上形成的中间层,所述中间层主要由从Al、Cr、Sn、Co和B及它们的氧化物、氮化物和碳化物中选出的至少一种构成;以及 在所述中间层上形成的硬碳膜。?
公开号  1182807A
公开日  1998-05-27
专利代理机构  上海专利商标事务所
代理人  张政权
颁证日  
优先权  1996.9.6 JP 236728/96; 1996.9.6 JP 236729/96; 1997.8.11 JP 216319/97
国际申请  
国际公布  
进入国家日期