搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

一种可控电弧靶
无权-未缴年费

申请号:94230705.4 申请日:1994-10-31
摘要:本实用新型为实现真空气相沉积技术中一种可控电弧靶,采用中心有孔的环形靶,靶周围联有导磁护板,磁铁能从环形靶靶中心穿过,造成大面积平行均匀强磁场,不仅有效加速弧斑在整个靶平面的运动,而且弧斑形成闭环轨迹。本实用新型结构简单、实用,特别适用于同时工作的多个弧靶设备上。
申请人: 机械工业部武汉材料保护研究所
地址: 430030湖北省********(隐藏)
发明(设计)人: 凌国伟 潘邻 沈辉宇 郑辉
主分类号: C23C14/30
分类号: C23C14/30
  • 法律状态
2003-12-03  
1995-12-27  授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种有一定厚度的非导磁体可控电弧靶,其特征在于将该可控电弧靶制作成中心有孔的环形靶,靶的周围联有导磁护板,磁铁从环形靶的中心穿过,磁铁的一个磁极能穿出靶面,并可通过螺杆调整该磁极端面与靶面的相对位置,磁铁的另一极通过空间磁场和导磁护板将磁力线集中在护板接近靶边缘的一端,从而在整个靶表面形成大面积均匀平行于靶面的磁力线。
公开号  2216067Y
公开日  1995-12-27
专利代理机构  武汉市专利事务所
代理人  何英君
颁证日  1995-10-22
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期