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采用可轴向移动坩埚的浮熔设备及其方法
无权-未缴年费

申请号:93107580.7 申请日:1993-06-02
摘要:为了连续浮熔特别小块高熔点金属,同时使可熔的液态金属的总量大于坩埚的容量。具有扇形片的导体坩埚包括一个圆筒上坩埚和一个封底下坩埚。一个感应线圈安放在上坩埚之外侧,在该线圈下边又安放一个感应线圈。在起始熔化阶段,下坩埚是与上坩埚接触的,并位于感应线圈之内侧。当在熔融金属和下坩埚之间生长并固化一个柱状金属时,下坩埚被下降。连续给料斗连续给进冷材料。在坩埚的上方配备一个熔融金属表面温度计和一个熔融金属表面水准仪。调节连续给料斗运作在熔融金属表面温度计所要求值的范围内。另一方面,下坩埚递次降低到所要求的熔融金属表面水准仪指示值的范围内。
申请人: 科学技术厅金属材料技术研究所 中部电力株式会社 富士电机株式会社
地址: 日本东京
发明(设计)人: 福泽章 渡边敏昭 森田公 藤田满 樱谷和之 山崎素央 武达男
主分类号: F27B14/00
分类号: F27B14/00
  • 法律状态
2012-07-25  未缴年费专利权终止IPC(主分类):F27B 14/00申请日:19930602授权公告日:20010103终止日期:20110602
2001-01-03  授权
1995-01-18  
1994-02-23  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种浮熔设备包括安置在感应线圈之内的,具有隔开的环状扇形片的导体坩埚,所说的坩埚包括一个圆筒状上坩埚和一个封底的下坩埚,所说的上坩埚和所说的感应线圈或所说的下坩埚可同轴移动。
公开号  1082702A
公开日  1994-02-23
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司
代理人  黄力行
颁证日  
优先权  1992.6.2 JP 140811/92
国际申请  
国际公布  
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