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用于光敏阻焊剂的附着力促进剂
无权-视为撤回

申请号:93105071.5 申请日:1993-05-20
摘要:本发明涉及一种用于光敏阻焊剂的附着力促进剂,属高分子化学技术领域。该促进剂通过下列反应式获得:$&其中Ⅳ是季戊四醇三-丙烯酸酯或季戊四醇三-甲基丙烯酸酯,V是五氧化二磷、磷酸或氧氯化磷,m=1或2,n=2或1,且m+n=3,R=H或-CH3。本促进剂能够在光固化过程中快速固化,而且还能够提高阻焊膜的耐温性能,使阻焊膜在焊接过程中耐较高温度冲击而不脱落。
申请人: 清华大学
地址: 100084北京市海淀区清华园
发明(设计)人: 陈德朴 刘密新 杨树屏
主分类号: C09D11/00
分类号: C09D11/00
  • 法律状态
1997-07-23  
1993-10-20  公开
1993-09-29  
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种用于光敏阻焊剂的附着力促进剂,其特征在于所述的促进剂通过下列反应式获得: 其中Ⅳ是季戊四醇三-丙烯酸酯或季戊四醇三-甲基丙烯酸酯; Ⅴ是五氧化二磷、磷酸或氧氯化磷中的任何一种; m=1,2; n=2,1;且m+n=3; R=H,-CH3
公开号  1077470
公开日  1993-10-20
专利代理机构  清华大学专利事务所
代理人  罗文群
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期