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离子镀膜装置
无权-未缴年费
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申请号:93104012.4 申请日:1993-04-03
摘要:一种离子镀膜装置,在真空容器钟罩11内,设置可将指定数量的蒸发材料15供给至规定位置处的送料器30、31,同时,至少送料器30、31的滑板部32、33构造成可退避至蒸发物质的蒸发路径之外,无须打开门18,即能可靠地将指定数量的蒸发材料15供给到钟罩11内规定的位置上,使送料器的滑板部32、33退避至蒸发物质的蒸发路径之外,从而防止蒸发物质被遮蔽,在被处理物上形成厚度与色调均匀的薄膜。
申请人: 西铁城钟表株式会社
地址: 日本东京
发明(设计)人: 篠宫秀夫 榎本贡
主分类号: C23C14/32
分类号: C23C14/32
  • 法律状态
2009-06-03  专利权的终止(未缴年费专利权终止)授权公告日:1999.7.7
2007-12-26  <变更事项>专利权人<变更前>西铁城钟表株式会社<变更后>西铁城控股株式会社
2007-12-26  <变更事项>地址<变更前>日本东京<变更后>日本东京都
1999-11-17  发明专利说明书更正更正卷=15号=27页码=扉页更正项目=发明人误=河宫秀夫 槺竟?/TD>正=篠宫秀夫 槺竟?/TD>
1999-07-07  授权
1995-07-19  
1993-10-20  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种离子镀膜装置,利用蒸发源,使设置在真空容器内规定位置上的蒸发材料蒸发,同时,将蒸发物质离子化,使该蒸发物质或该蒸发物质与气氛气体反应生成的化合物附着在被处理物上,形成薄膜,其特征在于,在上述真空容器内,设置可将指定数量的蒸发材料供给至上述规定位置处的送料器,同时,该送料器中至少将蒸发材料引导至上述规定位置的滑板部构造成可退避到上述蒸发物质的蒸发路径之外。
公开号  1077501
公开日  1993-10-20
专利代理机构  上海专利事务所
代理人  竹民
颁证日  
优先权  1992.4.4 JP 82534/92
国际申请  
国际公布  
进入国家日期