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一种平面光耦合器的制造方法
无权-届满

申请号:92105522.6 申请日:1992-07-08
摘要:由聚合物薄膜制造任意几何图形的光耦合器的方法,其特征在于:借助于事先加热的冲压工具用压力将在一块板上的薄膜冲压成所希望的形状。本发明方法使得在短时间内制造许多耦合器成为可能,而且按此方法制成的耦合器具有很均匀的混频区和良好的光学性能。用本发明方法制成的耦合器的特点是插入衰减和附加损失都特别低。
申请人: 赫彻斯特股份公司
地址: 联邦德国法兰克福
发明(设计)人: H·西克斯 A·布鲁克玫尔 W·格罗赫
主分类号: G02B1/04
分类号: G02B1/04 G02B6/26
  • 法律状态
1993-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、用聚合物薄膜制造任意几何图形的光耦合器的方法,其特征在于:借助于事先加热的冲压工具用压力将处在一块板上的薄膜冲压成所希望的形状。
公开号  1068430
公开日  1993-01-27
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人  樊卫民
颁证日  
优先权  1991.7.9 DE P4122639.9
国际申请  
国际公布  
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