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膜/基结合强度的检测方法及其装置
无权-未缴年费

申请号:91106170.3 申请日:1991-07-01
摘要:一种膜/基结合强度的检测方法及其装置,系属于力学测试领域。本发明的主要特征是基于膜/基界面的不连续性,利用所测的能耗或切向力在破膜时出现的突变作力膜/基剥离的判据,扣除膜、基各自的能耗而获得一个与界面结合密切相关的结合能判据。为实施上述方法,本发明还提供了一个检测装置,其装置中的样品台可做升降运动。
申请人: 中国科学院金属研究所
地址: 110015辽宁省沈阳市文化路二段六号
发明(设计)人: 李曙 李诗卓 魏向东
主分类号: G01N3/24
分类号: G01N3/24
  • 法律状态
1999-08-25  
1998-02-11  授权
1993-10-06  
1993-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种膜/基结合强度的检测方法,其特征在于: (1)利用单摆冲击划痕仪的划头以1-3m/s的速度划过带有薄膜的平面样品,在足够的划痕长度条件下,划头依次与膜层表面接触,进入表层,透过膜/基界面,侵入基材直至最深处后再以相反的过程掠出样品表面; (2)在此过程中分别测出不同入侵深度划痕的能量消耗和最大剪切力;获得界面结合强度的判据基于膜/基界面的不连续性,利用在界面破坏时出现的切向力和能耗的突变,求出突变时对应的法向力和显露膜/基界面单位长度所消耗的能量来评价薄膜和基材的结合强度。
公开号  1068425
公开日  1993-01-27
专利代理机构  中国科学院沈阳专利事务所
代理人  闵宪智
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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