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双室旋转磁控溅射镀膜机
无权-届满

申请号:89215781.X 申请日:1989-09-05
摘要:迄今在市场上销售的镀膜机,无例外的都是单室机。$本发明的双室旋转磁控溅射镀膜机是对单室磁控溅射镀膜机的改进。两个镀膜室通过预抽真空管道和蝶阀、高真空三通管道和闸板阀组成一个整体。两室交替的使用一套真空抽气机组和一套电源控制系统,其工作效率相当于两台单室机,但比两台单室机节约电能40%以上,而造价却比两台单室机低30%。由于发明了旋转磁控溅射靶系统,使靶材表面溅射和刻蚀均匀,靶材的利用率由原来的20%左右提高到了现在的74%。
申请人: 核工业西南物理研究院
地址: 四川省乐山市第十五信箱
发明(设计)人: 王贵义 王世忠
主分类号: C23C14/35
分类号: C23C14/35
  • 法律状态
1995-05-03  
1991-11-13  授权
1991-04-24  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种由镀膜室、镀膜室底座、磁控溅射源系统、真空系统和电源控制系统组成的双室旋转磁控溅射镀膜装置,其特征是镀膜室为共用一套真空抽气机组和一套电源控制系统的双室结构;镀膜室的磁控溅射源是旋转磁控溅射源,它是一种圆柱形管状靶,在其内与轴平行地安置着数根条形磁钢,而且整个磁体具有转动机构,其转速>1转/分。
公开号  2075655
公开日  1991-04-24
专利代理机构  核工业专利法律事务所
代理人  刘世权
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期