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冷等离子体表面处理设备及其处理工艺
无权-未缴年费

申请号:89107909.2 申请日:1989-10-10
摘要:本发明涉及一种利用冷等离子体对材料表面进行处理的设备及其处理工艺。其主要特点是采用直流辉光放电的正柱区产生冷等离子体,并利用它对材料表面进行处理。直流辉光放电的阳极和阴极设在真空室的两端,真空室两端还设有支撑板,支撑板之间装有若干根转轴和一根主动传动轴。主动传动轴带动被处理材料通过放电区。本发明具有结构和工艺简单、易于大规模工业化生产、无电磁污染和处理效果好等优点。
申请人: 福州大学
地址: 350002福建省福州市工业路西禅寺
发明(设计)人: 林立中
主分类号: C08J5/00
分类号: C08J5/00 D06M10/00
  • 法律状态
1998-12-02  
1996-11-13  授权
1992-03-11  
1991-04-24  公开
1990-03-07  
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种冷等离子体表面处理工艺,其特征是采用直流辉光放电的正柱区产生冷等离子体,并利用它对材料表面进行处理,被处理材料的层面与电场方向平行。
公开号  1050885
公开日  1991-04-24
专利代理机构  福建省专利服务中心
代理人  林捷华
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期