搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

宽温低铬酐镀铬添加剂
无权-视为撤回

申请号:89107808.8 申请日:1989-10-07
摘要:本发明是有关一种宽温低铬酐镀铬添加剂及其制备,其特征在于由氟化稀土和氟硅酸钠混合组成,其制备工艺是按一定量的氧化稀土(镨钕富积物)进行溶解、沉淀、过滤洗涤、反应、研磨、再过滤洗涤、烘干,按比例1.5~2.3∶1加入氟硅酸钠经混合均匀即成。本发明电流密度范围为5~30A/dm2,电流效率高为22%以上,温度范围为17~55℃,镀层一次合格率达95%以上。降低废水中排铬含量60~70%,节水、节电。
申请人: 合肥四达应用化学研究所
地址: 安徽省合肥市合作化南路64号
发明(设计)人: 郑大刚 何祖文
主分类号: C25D3/04
分类号: C25D3/04
  • 法律状态
1993-02-10  
1991-04-24  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种用于电镀液的镀铬添加剂,其特征在于所述的添加剂以氟化稀土和氟硅酸钠混合组成,其组成的含量%: 氟化稀土??60~70 氟硅酸钠??30~40
公开号  1050910
公开日  1991-04-24
专利代理机构  安徽省专利事务所
代理人  陆方明
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期