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大区域微波等离子装置
无权-未缴年费

申请号:89102699.1 申请日:1989-03-28
摘要:适宜在较大区域上维持一个基本均匀的等离子区的微波能量装置。本发明最主要的结构是绕微波施加器设置有一隔离窗,所述隔离窗是由一种微波能通过它从施加器发射到等离子反应容器中的材料构成,该隔离窗的形状能最佳地承受压力,这种方式能使隔离窗的厚度最小,以便快速冷却,从而可达到高功率而不破坏隔离窗。
申请人: 能量转换装置公司 佳能株式会社
地址: 美国密执安
发明(设计)人: 乔奇姆·道利尔 杰弗尔·M·克雷斯克
主分类号: H05H1/46
分类号: H05H1/46
  • 法律状态
2009-05-27  专利权的终止(未缴年费专利权终止)授权公告日:1996.2.21
2002-04-24  
1996-02-21  授权
1991-07-03  
1990-02-28  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、用来在较大区域上维持基本均匀的等离子区的微波能量装置,该装置包括: 一个真空容器,用来激发并维持其等离子区中的等离子体; 在所述容器中的相对等离子区处于工作上邻近关系的支承基质的装置; 使所述容器维持在较低的基本低于大气压的压力下的装置; 将处理气体引入所述容器内的装置; 至少部分伸入所述容器内部的施加装置,该施加装置适于将来自微波能源的微波能基本均匀地辐射入所述容器的内部,以将引入到容器中的处理气体保持等离子态; 将微波辐射施加装置与等离子区隔离开的装置,该隔离装置(1)是由一种微波能量能从所述施加装置透射到所述容器中的材料所构成,(2)其形状是能极好地承受压力差的形状,而使隔离装置的厚度减至最小,并且微波辐射施加装置和隔离装置适合于沿设置在所述容器中的基质的纵向表面进行大致均匀的等离子操作。
公开号  1040122A
公开日  1990-02-28
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人  王申
颁证日  
优先权  1988.3.29 US 174,659
国际申请  
国际公布  
进入国家日期