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制备均匀精细含硼陶瓷粉末的设备及其方法
无权-视为撤回

申请号:89101627.9 申请日:1989-02-04
摘要:一种制备均匀精细陶瓷粉末的设备,该设备包括冷却的反应物传送装置(6);反应室(16);加热装置(40);冷却室(42)。该反应物传送装置与反应室相连,包括一个沿反应物传送装置周围设置的气流空间,气流空间也与反应室相连。该反应室内为包括加热装置的反应区。冷却室内为冷却区,与反应室相接。通过本发明设备制备含硼陶瓷粉末的方法。包括(1)将氧化硼或其水合物和碳源通过冷却的反应物传送装置(其温度低于反应物熔化温度)送入上述设备;(2)在反应区中,反应物在1400℃以上进行反应,形成均匀精细含硼陶瓷粉末;(3)在冷却区对陶瓷粉末进行冷却。
申请人: 唐化学原料公司
地址: 美国密歇根州
发明(设计)人: 艾伦·W·怀马 威廉·G·穆尔 雷蒙·P·罗奇
主分类号: C04B35/64
分类号: C04B35/64 C04B35/56 C04B35/58
  • 法律状态
1993-12-29  
1991-05-08  
1989-10-04  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种制备均匀精细陶瓷粉末的设备,包括: (a)冷却的反应物传送装置(6); (b)反应室(16); (c)加热装置(40);和 (d)冷却室(42); 冷却的反应物传送装置(6)包括,限制一个导管与反应室(16)相通的壁,沿反应物传送装置(6)周围设置一个气流空间(20)并与反应室(16)相通; 反应室(16)包括一个限制反应区(28)的壁(26); 加热装置(40)设置在反应区(28)附近,对反应区(28)内的反应物进行加热; 冷却室(42)包括限制冷却区(44)的壁,该壁与反应室(16)连接; 反应物传送装置(6)、反应室(16)和冷却室(42)的温度可以分别控制; 反应物通过反应物传送装置(6)喂入反应区(28),反应形成产物,然后产物送入冷却区(44)制备均匀精细陶瓷粉末。
公开号  1036003A
公开日  1989-10-04
专利代理机构  中国专利代理有限公司
代理人  齐曾度
颁证日  
优先权  1988.2.5 US 152,613
国际申请  
国际公布  
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