搜索 分析 新世界 法规 图书 网址导航 更多
高级用户登录 | 登录 | |

按图案制造氧化物超导材料薄膜的方法
无权-视为撤回

申请号:88109216.9 申请日:1988-12-13
摘要:一种按图案制造氧化物超导材料薄膜的方法,按此法,运用反应离子和氧化铝或氧化硅掩模,借助于蚀刻的方法制作图案,所说的方法使高精度制作具有线宽小于2μm的图案成为可能,而不采用使超导特性退化的方法,影响超导薄膜的结构。
申请人: 菲利浦光灯制造公司
地址: 荷兰艾恩德霍芬
发明(设计)人: 玛丽扎·杰拉达·约瑟法·海曼
主分类号: H01L39/24
分类号: H01L39/24 H01L21/302 H01B12/06
  • 法律状态
1992-02-19  
1990-11-07  
1989-08-09  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种按照图案制造氧化物超导材料薄膜的方法,其特征在于包括以下步骤: -在一电绝缘衬底上制备氧化物超导材料薄膜; -在其上制做一无机物掩蔽层; -接着,制做一抗蚀胶图案; -在三氟甲烷和氩的混合物等离子气体中,以抗蚀胶图案为掩模,蚀刻无机物掩蔽层; -除去抗蚀胶图案; -以蚀刻过的无机物掩蔽层做掩模,在含氯的等离子气体中蚀刻氧化物超导材料薄膜; -在三氟甲烷和氩的混合物中,用等离子体处理,剥除无机物掩蔽层。
公开号  1034636A
公开日  1989-08-09
专利代理机构  中国专利代理有限公司
代理人  肖掬昌 肖春京
颁证日  
优先权  1987.12.16 NL 8703039
国际申请  
国际公布  
进入国家日期