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加保护层的方法
无权-未缴年费

申请号:86103644 申请日:1986-06-11
摘要:光刻工艺包括在衬底上旋涂保护层并将掩膜图 形转移到保护层上而后进行曝光,及在图形被曝光 后在衬底上形成该图形。当保护层显影图形因加保 护层工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时,将 参数的值设置到与脉动的极值相符。
申请人: 株式会社日立制作所
地址: 日本东京
发明(设计)人: 伊藤铁男 田沼正也 中込义之 门田和也 小林一成
主分类号: G03F7/16
分类号: G03F7/16 G03F7/20
  • 法律状态
2000-08-09  
1989-10-18  授权
1988-11-23  审定
1987-04-29  公开
1987-02-18  
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、施加光刻保护层的方法包括为衬底施涂保护层的工艺过程,其特征在于上述施加光刻保护层的方法包括:将掩膜图形转移到已涂了保护层的膜上,而后进行曝光的工艺,和当图形被曝光后在衬底上形成图形的显影过程,其中当上述的保护层的显影图形随着上述加保护层工艺中参数的增加或减少而脉动变化时,上述的参数值被设置到某一个值,该值与上述的脉动的极值相对应。
公开号  86103644A
公开日  1987-04-29
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人  李勇
颁证日  
优先权  1985.6.12 JP 126133/85
国际申请  
国际公布  
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