旁轴氦氖双频激光器
无权-届满
PARAXIAL DOUBLE-FREQUENCY HE-NE LASER
申请号：85200507 申请日：1985-04-01
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摘要：本旁轴氦氖双频激光器的放电毛细管用零膨胀 微晶玻璃制成，其外径为20～30毫米，内径为 0.90～1.20毫米，并与外壳分离。压电陶瓷环和空 心压电陶瓷柱位于激光谐振腔外，因而使激光谐振 腔工作稳定、制造简便，开机即能长时间连续稳定工 作，其频率稳定度达到1×10-9。 |
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| Abstract： The utility model discloses a paraxial double-frequency He-Ne laser, a discharging capillary tube of which is made from nucleated glass without expansion. The outer diameter of the discharging capillary tube is phi 20-30 mm, the inner diameter of the discharging capillary tube is phi 0.90-1.20 mm, and the discharging capillary tube is separated from a casing. A piezoelectric ceramic ring and a hollow piezoelectric ceramic pole are arranged outside a laser resonance cavity, and thus the laser resonance cavity has stable operation and simple manufacture and can be in continuous stable operation for a long time from the starting, and the frequency stability of the laser resonance cavity can achieve 1*10-9. | |
| 申请人： 机械工业部成都工具研究所 | |
| Applicant： | |
| 地址： 四川省成都市红星北********(隐藏) | |
| 发明(设计)人： 俞成栋 钮家汶 羡一民 | |
| Inventor： | |
| 主分类号： H01S3/223 | |
| 分类号： H01S3/223 | |
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- 法律状态
| 1991-12-25 | |
| 1987-01-14 | 授权 |
| 1986-07-02 | 公开 |
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
- 其他信息
| 主权项 | 1.一种氦氖双频激光器，其特征在于所说的氦氖双频激光器的 压电陶瓷环(13)和空心压电陶瓷柱(14)位于该激光器激光諧 振腔外端部，並与放电毛细管(6)同心，用胶将压电陶瓷环(13)， 空心压电陶瓷柱(14)、平面带环形槽高反射膜片(12)和带孔 镜片(15)贴合连接成一体。 | ||||||||||||||||||
| 公开号 | 85200507U | ||||||||||||||||||
| 公开日 | 1986-07-02 | ||||||||||||||||||
| 专利代理机构 | |||||||||||||||||||
| 代理人 | |||||||||||||||||||
| 颁证日 | |||||||||||||||||||
| 优先权 |
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| 国际申请 | |||||||||||||||||||
| 国际公布 | |||||||||||||||||||
| 进入国家日期 | |||||||||||||||||||
- 专利对比文献
| 类型 | 阶段 | 文献号 | 公开日期 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
注：不保证该信息的有效性、完整性、准确性，以上信息也不具有任何效力，仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核，使用该信息的一切后果由用户自行负责。
Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
- 期刊对比文献
| 类型 | 阶段 | 期刊文摘名称 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
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- 附加信息
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| 引用文献 | |
| 被引用文献 | |
