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用椭圆仪监控多层介质膜的方法
无权-视为撤回

申请号:85108747 申请日:1985-12-02
摘要:一种镀制多层光学薄膜的监控方法。采用椭圆 偏振光测厚仪监控,真空镀膜机镀制。该方法的特征 是可以方便地确定镀制某层膜所需的参量φ值和△ 值,也能测知该层的实际折射率和几何厚度(或光学 厚度)。它适用于单层或多层介质膜,滤光片和宽带 膜,λ/4膜和非λ/4膜等,是很有前途的监控方法。
申请人: 北京师范大学
地址: 北京市新街口外大街********(隐藏)
发明(设计)人: 沈繁宜 尚世弦 郑东东
主分类号: C23C14/54
分类号: C23C14/54
  • 法律状态
1989-04-26  
1987-06-17  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种镀制多层光学薄膜的监控方法,在镀膜机上安装椭圆偏振光测厚仪,欲镀制第m层时,先找出镀制该层所需的ψ值和Δ值,然后将椭圆仪置于相应位置(例如消光式椭圆仪为A值和P值),接着开镀,当镀到所需膜厚,椭圆仪将有显示(例消光式椭圆仪表现为光点达到最暗),然后停镀,此膜即为所需的第m层膜,其特征在于找出第m层的ψ值和Δ值,不仅要考虑该层的折射率和几何厚度,还要考虑已镀的各层膜的折射率和几何厚度以及基片的折射率,所依据的公式为
公开号  85108747A
公开日  1987-06-17
专利代理机构  北京师范大学专利事务所
代理人  刘守国 吴圣谷
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期