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高反差正性光致抗蚀剂显影的方法
无权-视为放弃
著录变更

申请号:85107347 申请日:1985-09-30
摘要:正性光致抗蚀剂碱性溶液两步显影方法提供使光致抗蚀剂产生高反差.所公开的显影液包括氢氧化钾、碳氮化合物或羧化物表面活性剂那样的碱基溶液.在光致抗蚀剂的反差上碳氮化合物或羧化物的表面活性剂的加入可产生意想不到的增加,在对已曝光的抗蚀剂膜的有效显影中双浸方法可加以使用,在浴的使用期中光致抗蚀剂的反差和感光度将基本保持不变.高反差光致抗蚀剂提供线宽控制,并且进一步改进光致抗蚀剂图形加工的一致性.
申请人: 阿兰特公司
地址: 美国新西州07960-2245毛里斯市邮政信箱2245R
发明(设计)人: 詹姆斯·马丁·刘易斯
主分类号: G03C5/24
分类号: G03C5/24
  • 法律状态
1996-01-31  
1990-10-17  <变更前>赫尔斯美利坚有限公司<变更后>迈克罗西有限公司
1988-02-10  
1986-08-20  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1、一种对正性辐照敏感的包括有苯醌二叠氮基磺酸衍生物和碱可溶性树脂组成的抗蚀剂膜,这种抗蚀剂膜巳涂布在衬底上,并经辐照曝光后,为形成一表面凹凸图形的显影法,该显影法包括: (a)使曝光抗蚀剂膜同含有以显影液的重量计0.001%~1.0%的表面活性剂的含水碱性预处理溶液接触,其中所说的表面活性剂是从碳氟化合物或羧化物表面活性剂和足以提供碱度的基础成分组成的基团中选取的。 (b)从工序(a)得到的预处理薄膜经水的清洗。 (c)从工序(b)得到的巳预处理抗蚀剂膜同PH值至少为9和至少含有以显影液重量计0.0001%的表面活性剂的含水显影溶液接触,其中所说的表面活性剂是由碳氟化合物或羧化合物的表面活性剂组成的基团中选取的,以便溶解所说抗蚀剂膜的曝光部分。
公开号  85107347
公开日  1986-08-20
专利代理机构  上海专利事务所
代理人  张恒康
颁证日  
优先权  1984.10.17 US 661751
国际申请  
国际公布  
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