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辅助曝光装置
审中-实审

Auxiliary exposure device

申请号:201710149843.1 申请日:2017-03-14
摘要:本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧,对被处理基板进行局部曝光处理,包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板,照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外,光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。
Abstract: The present invention provides an auxiliary exposure device capable of improving exposure resolution. The auxiliary exposure device according to the present embodiment is disposed on the front stage or the rear stage of the exposure device for subjecting the substrate to be subjected to the exposure treatment, and the substrate to be processed is subjected to a local exposure process including a transport unit and a light source unit. The transport unit transfers the processed substrate in the scanning direction. The light source unit irradiates a substrate to be processed that is conveyed in the scanning direction and irradiates a linear light having a long side direction in a direction intersecting with the scanning direction. In addition, the light source unit is configured to include a digital micromirror device in which a plurality of movable micromirrors are arranged.
申请人: 东京毅力科创株式会社
Applicant: TOKYO ELECTRON LTD
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 佐竹顺 太田义治
Inventor: JUN SATAKE; YOSHIHARU OTA
主分类号: G03F7/20(2006.01)I
分类号: G03F7/20(2006.01)I
  • 法律状态
2018-10-16  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20170314
2017-09-22  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种辅助曝光装置,其特征在于:
配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧,对所述被处理基 板进行局部曝光处理,
所述辅助曝光装置包括:
搬送部,该搬送部将所述被处理基板在扫描方向上搬送;和
光源单元,该光源单元对在所述扫描方向上被搬送的所述被处理基板,照射以与所述 扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光,
所述光源单元包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。
公开号  107193185A
公开日  2017-09-22
专利代理机构  北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人  龙淳
颁证日  
优先权  2016.03.14 JP 2016-049110
 
国别 优先权号 优先权日 类型
JP  2016-049110  20160314 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
SEA  JP2011123383A  20110623  1-5  全文 
SEA  CN103309170A  20130918  1-5  说明书第[0067]-[0118]段,附图1-4 
SEA  CN105319856A  20160210  1-5  说明书第[0019]-[0039]段,附图1-3 
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数