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包括气体分配系统的喷溅装置
审中-实审

申请号:201680008421.6 申请日:2016-02-02
摘要:一种磁控喷溅装置(10),其包括真空室(12)、靶(16)和气体分配系统(18),受控的环境可以在所述真空室内建立,所述靶包括一种或多种可喷溅材料,其中靶包括跑道形喷溅区域(38),所述跑道形喷溅区域沿纵向轴线纵向延伸并且包括被夹在第一转向区域(40)与第二转向区域(44)之间的笔直区域(42),所述气体分配系统将第一气体混合物供给到第一转向区域和/或第二转向区域并且将第二气体混合物供给到笔直区域,其中第一气体混合物相对于第二气体混合物降低喷溅速率。在某些情况下,第一气体混合物包括具有第一原子量的惰性气体,并且第二气体混合物包括具有第二原子量的惰性气体,其中第二原子量比第一原子量重。
申请人: 卡迪奈尔镀膜玻璃公司
地址: 美国明尼苏达
发明(设计)人: K·哈蒂格
主分类号: C23C14/00(2006.01)I
分类号: C23C14/00(2006.01)I C23C14/35(2006.01)I H01J37/32(2006.01)I H01J37/34(2006.01)I
  • 法律状态
2018-03-06  实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/00申请日:20160202
2017-09-26  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种磁控喷溅装置,包括:
真空室,受控的环境可以在所述真空室内建立;
靶,其包括一种或多种可喷溅材料,其中靶包括沿纵向轴线纵向延伸的喷溅区域;
气体分配系统,其包括沿纵向轴线延伸的多个接口,其中所述多个接口包括第一接口 和第二接口;
其中第一气体混合物被供给到第一接口,并且第二气体混合物被供给到第二接口,其 中第一气体供给件供给第一气体混合物,并且第二气体供给件供给第二气体混合物,其中 第一气体混合物包括具有第一原子量的惰性气体,并且第二气体混合物包括具有第二原子 量的惰性气体,其中第一原子量不同于第二原子量。
公开号  107208249A
公开日  2017-09-26
专利代理机构  永新专利商标代理有限公司 72002
代理人  李隆涛
颁证日  
优先权  2015.02.03 US 62/111,318
国际申请  2016-02-02 PCT/US2016/016081
国际公布  2016-08-11 WO2016/126650 EN
进入国家日期  2017.08.02