一种曲面光栅结构、显示面板及显示装置
有权
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申请号：201610911912.3 申请日：2016-10-19
CN201610911912
CN106338789B
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摘要：本发明公开了一种曲面光栅结构、显示面板及显示装置，包括：多个间隔设置的光栅条；每两个相邻的光栅条的中心点之间所组成的图形作为一个光栅周期；各光栅周期的宽度从曲面光栅结构的中心到边缘依次递减。由于本发明实施例提供的上述曲面光栅结构按照这种方式来排布光栅周期，可以扩展最佳观测区域，尤其在纵深方向上有着更加广阔的观察空间，因此当观察者前后移动的时候，也能拥有较好的观看体验。 |
|---|---|
| Abstract： A curved grating structure, a display panel and the display device are provided. The curved grating structure includes multiple grating strips spaced from each other. Grating intervals between adjacent grating strips are successively decreased from a center point of the curved grating structure to a terminal of the curved grating structure. The grating interval between two adjacent grating strips is a distance in a first direction between center points of the two adjacent grating strips, and the first direction is a direction perpendicular to a normal vector of the curved grating structure passing through a center point of the curved grating structure. | |
| 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 | |
| Applicant： | |
| 地址： 100015 北京市朝阳区酒仙桥********(隐藏) | |
| 发明(设计)人： 张玉婷 朝克 尹国冰 邵继洋 彭敏 刘兴东 | |
| Inventor： | |
| 主分类号： G02B5/18(2006.01)I | |
| 分类号： G02B5/18(2006.01)I G02B27/22(2006.01)I | |
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- 法律状态
| 2017-08-11 | 授权 |
| 2017-02-15 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18申请日:20161019 |
| 2017-01-18 | 公开 |
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
- 其他信息
| 主权项 | 1.一种曲面光栅结构，其特征在于，包括：多个间隔设置的光栅条；每两个相邻的所述
光栅条的中心点之间所组成的图形作为一个光栅周期； 各所述光栅周期的宽度从所述曲面光栅结构的中心到边缘依次递减。 |
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| 公开号 | 106338789B | ||||||||||||||||||
| 公开日 | 2017-08-11 | ||||||||||||||||||
| 专利代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | ||||||||||||||||||
| 代理人 | 黄志华 | ||||||||||||||||||
| 颁证日 | |||||||||||||||||||
| 优先权 |
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| 国际申请 | |||||||||||||||||||
| 国际公布 | |||||||||||||||||||
| 进入国家日期 | |||||||||||||||||||
- 专利对比文献
| 类型 | 阶段 | 文献号 | 公开日期 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
注：不保证该信息的有效性、完整性、准确性，以上信息也不具有任何效力，仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核，使用该信息的一切后果由用户自行负责。
Ｘ：单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件；
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
Ｙ：与检索报告中其他 Ｙ类文件组合后影响权利要求的创造性的文件；
Ａ：背景技术文件，即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件；
Ｒ：任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件；
Ｐ：中间文件，其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件，或会导致需核实该申请优先权的文件；
Ｅ：单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
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| 类型 | 阶段 | 期刊文摘名称 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
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| 类型 | 阶段 | 书名 | 作者 | 标题 | 涉及权利要求项 | 相关页数 |
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