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一种掩膜版及彩色滤光片基板的制备方法
审中-实审

申请号:201610265438.1 申请日:2016-04-26
摘要:本发明公开了一种掩膜版,包括:基板;多个遮光部,分别间隔设置在所述基板的表面;多个半透光部,分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置,其中,在相邻的两个所述遮光部之间,相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域。本发明还公开一种彩色滤光片基板的制备方法。本发明所提供的掩膜版在遮光部与透光区域之间设置两个半透光部,在使用该掩膜版进行曝光时,因对应半透光部的黑色光刻胶材料层的曝光量小于对应透光区域的黑色光刻胶材料层的曝光量,使得对应半透光部的黑色光刻胶材料层在显影时的溶解度介于对应透光区域及遮光部的溶解度之间,从而起到一个缓冲的作用,易于通过控制显影时间提高显影精度。
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
地址: 518006 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
发明(设计)人: 贺晖
主分类号: G03F1/54(2012.01)I
分类号: G03F1/54(2012.01)I G03F1/32(2012.01)I G02B5/20(2006.01)I
  • 法律状态
2016-07-27  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/54申请日:20160426
2016-06-29  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种掩膜版,其特征在于,包括:基板;多个遮光部,分别间隔设置在所述基板的表面;多个半透光部,分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置,其中,在相邻的两个所述遮光部之间,相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域。
公开号  105717737A
公开日  2016-06-29
专利代理机构  深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280
代理人  何青瓦
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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