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一种显影装置及使用该显影装置降低水渍缺陷的方法
审中-实审

申请号:201610212877.6 申请日:2016-04-07
摘要:一种显影装置,具有旋涂机构,并进一步包括:晶圆承载台,通过旋转轴进行旋转,并用于承载待工艺处理之晶圆;第一气体喷嘴和第二气体喷嘴,均与外界洁净气体有压管路连接,并分别设置在位于晶圆承载台上之待工艺处理的晶圆上、下两侧,且第一气体喷嘴和第二气体喷嘴之有压气体朝向待工艺处理之晶圆的边缘喷吹。本发明藉由进一步设置通过旋转轴旋转的晶圆承载台,以及在所述晶圆承载台上之待工艺处理的晶圆上、下两侧设置第一气体喷嘴和第二气体喷嘴,不仅结构简单、使用方便,而且可以在旋转离心力作用的同时,通过洁净气体喷吹,加速残留水渍的脱离和蒸发,降低水渍缺陷,提高产品良率。
申请人: 上海华力微电子有限公司
地址: 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号
发明(设计)人: 马兰涛 朱骏
主分类号: G03F7/20(2006.01)I
分类号: G03F7/20(2006.01)I H01L21/67(2006.01)I
  • 法律状态
2016-07-27  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20160407
2016-06-29  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种显影装置,具有旋涂机构,其特征在于,所述显影装置,进一步包括:晶圆承载台,所述晶圆承载台通过旋转轴进行旋转,并用于承载待工艺处理之晶圆;第一气体喷嘴和第二气体喷嘴,所述第一气体喷嘴和所述第二气体喷嘴均与外界洁净气体有压管路连接,并分别设置在位于晶圆承载台上之待工艺处理的晶圆上、下两侧,且所述第一气体喷嘴和所述第二气体喷嘴之有压气体朝向所述待工艺处理之晶圆的边缘喷吹。
公开号  105717754A
公开日  2016-06-29
专利代理机构  上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人  智云
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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