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外延基环
审中-实审

申请号:201610052064.5 申请日:2014-02-19
摘要:本文描述的实施方式涉及用于基板处理腔室的基环组件。在一实施方式中,所述基环组件包括环形主体、上环与下环,所述环形主体的尺寸被设计以容置在所述基板处理腔室的内圆周内,所述环形主体包括装载端口以使基板通过、气体入口以及气体出口,其中所述气体入口与所述气体出口被设置在所述环形主体的相对端处,所述上环被配置以设于所述环形主体的顶表面上,所述下环被配置以设于所述环形主体的底表面上,其中所述上环、所述下环与所述环形主体一旦组装即大体呈同心或共轴的。
申请人: 应用材料公司
地址: 美国加利福尼亚州
发明(设计)人: 史蒂夫·阿博阿杰 保罗·布里尔哈特 苏拉吉特·库马尔 常安忠 萨瑟施·库珀奥 穆罕默德·图格鲁利·萨米尔 戴维·K·卡尔森
主分类号: H01L21/67(2006.01)I
分类号: H01L21/67(2006.01)I C23C16/44(2006.01)I C23C16/455(2006.01)I C23C16/458(2006.01)I C23C16/48(2006.01)I
  • 法律状态
2016-08-24  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20140219
2016-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种用于基板处理腔室的基环组件,包括:环形主体,所述环形主体被设置在所述基板处理腔室的内圆周内,所述环形主体包括:基板装载端口;气体入口;气体出口,其中所述气体入口与所述气体出口被设置在所述环形主体的相对端处,且其中所述基板装载端口相对于所述气体入口与所述气体出口呈约90°的角度偏移;上沟槽,所述上沟槽形成于所述环形主体的顶表面中;以及下沟槽,所述下沟槽形成于所述环形主体的底表面中;上环,所述上环被设置在所述环形主体的所述上沟槽内;及下环,所述下环被设置在所述环形主体的所述下沟槽内,其中所述上环、所述下环与所述环形主体一旦组装即是大体上同心的或同轴的。
公开号  105810610A
公开日  2016-07-27
专利代理机构  北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人  徐金国 赵静
颁证日  
优先权  2013.03.13 US 61/780,447;2013.03.14 US 61/781,960;2013.03.18 US 13/846,355
国际申请  
国际公布  
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