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一种低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅及其制备方法
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申请号:201610040410.8 申请日:2016-01-21
摘要:本发明属于牙膏用二氧化硅技术领域,涉及一种低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅及其制备方法。所述制备方法:S1、将固体硅酸钠液化后加水调制硅酸钠溶液;S2、将稀硫酸和二氧化硅粉体混合,搅拌下加硅酸钠溶液至pH值2~3,搅拌,得到酸性硅溶胶;S3、注入硅酸钠溶液和氯化钠溶液,搅拌,加热,加硫酸至pH值10~11,加所述酸性硅溶胶;S4、同时加硅酸钠溶液和硫酸,并保持pH值9.0~9.5,硅酸钠溶液加完继续加入硫酸至pH值2~3,陈化,压滤,洗涤,干燥破碎得到低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅,其RDA值为120~140,PCR值为120~140,PCR/RDA=0.86~1,具有低磨损高清洁的性能。
申请人: 广州市飞雪材料科技有限公司
地址: 510663 广东省广州市高新技术产业开发区科学城科丰路31号华南新材料创新园G5栋618号
发明(设计)人: 任振雪 庹文喜 林英光 赵国法 李丽峰
主分类号: C01B33/18(2006.01)I
分类号: C01B33/18(2006.01)I
  • 法律状态
2016-12-28  授权
2016-07-27  实质审查的生效IPC(主分类):C01B 33/18申请日:20160121
2016-06-29  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、将SiO2:Na2O=3.3~3.45的固体硅酸钠加压加温液化后加水分别调制浓度为0.6~0.8M的硅酸钠溶液、浓度为1~1.3M的硅酸钠溶液和浓度为1.8~2.2M的硅酸钠溶液,备用;S2、将稀硫酸和粒径为8~15μm的二氧化硅粉体混合,高速搅拌下加入所述浓度为0.6~0.8M的硅酸钠溶液至pH值为2~3,搅拌10min,得到酸性硅溶胶,备用;S3、往反应罐注入所述浓度为1~1.3M的硅酸钠溶液10~12m3,加入氯化钠溶液10~12m3,搅拌10min,然后加热至75~90℃,开启搅拌,加入硫酸溶液至pH值为10~11,停止加酸,加入所述酸性硅溶胶2~5m3,搅拌5min;S4、保持温度,同时加入所述浓度为1.8~2.2M的硅酸钠溶液10~12m3和硫酸溶液,并保持过程pH值在9.0~9.5,硅酸钠溶液加入完毕后继续加入硫酸溶液至pH值到2~3,停止加酸,陈化10min,将形成的二氧化硅进行压滤,洗涤至二氧化硅滤饼的洗涤水中盐含量低于2%,通过气流干燥后用气流破碎机破碎至粒径为9~11μm,得到低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅。
公开号  105712359A
公开日  2016-06-29
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