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具有改进的硅钝化的半水性光致抗蚀剂或半导体制造残余物剥离和清洁组合物
审中-实审
权利转移

申请号:201510981707.X 申请日:2015-12-23
摘要:本发明涉及光致抗蚀剂或半导体制造残余物剥离和清洁组合物,其包含水、一种或多种碱性化合物、一种或多种腐蚀抑制剂和一种或多种抗氧化剂的一种或多种氧化产物,及制备所述组合物的方法和使用所述组合物的方法。
申请人: 气体产品与化学公司
地址: 美国宾夕法尼亚州
发明(设计)人: R·K·阿加瓦尔 M·R·布朗 吴爱萍 D·B·瑞内 李翊嘉 G·E·帕里斯
主分类号: G03F7/42(2006.01)I
分类号: G03F7/42(2006.01)I
  • 法律状态
2017-06-16  专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/42登记生效日:20170527变更事项:申请人变更前权利人:气体产品与化学公司变更后权利人:弗萨姆材料美国有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:美国宾夕法尼亚州变更后权利人:美国亚利桑那州
2016-07-27  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/42申请日:20151223
2016-06-29  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  光致抗蚀剂或半导体制造残余物剥离和清洁组合物,其包含水、一种或多种碱性化合物、一种或多种腐蚀抑制剂、和一种或多种抗氧化剂的一种或多种氧化产物。
公开号  105717756A
公开日  2016-06-29
专利代理机构  北京市金杜律师事务所 11256
代理人  吴亦华 徐志明
颁证日  
优先权  2014.12.23 US 62/095,857;2015.12.09 US 14/964,033
国际申请  
国际公布  
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