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光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法
审中-实审

申请号:201510926381.0 申请日:2015-12-14
摘要:光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法,光掩模的制造方法能够对通过一次成膜而形成的光学膜准确地实施期望量的减膜,显示装置的制造方法使用了该光掩模。包含以下工序:准备在透明基板上涂覆光学膜和第1抗蚀剂膜而得到的光掩模基板的工序;形成第1抗蚀剂图案的工序;蚀刻去除光学膜的第1构图工序;剥离第1抗蚀剂图案并涂覆第2抗蚀剂膜的工序;形成第2抗蚀剂图案的工序;对光学膜进行蚀刻减膜的第2构图工序;以及剥离第2抗蚀剂图案的工序,以第2抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分成为比第1抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式,对第2描绘图案实施了尺寸减小。
申请人: HOYA株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 吉川裕
主分类号: G03F1/80(2012.01)I
分类号: G03F1/80(2012.01)I G03F1/82(2012.01)I
  • 法律状态
2016-07-27  实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/80申请日:20151214
2016-06-29  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种光掩模的制造方法,包含以下工序:通过对在透明基板上形成有光学膜的光掩模基板的所述光学膜进行构图,形成转印用图案,所述光掩模的制造方法的特征在于,包含以下工序:准备光掩模基板的工序,该光掩模基板是在所述透明基板上形成光学膜,并在该光学膜上涂覆第1抗蚀剂膜而得到的;第1抗蚀剂图案形成工序,对所述第1抗蚀剂膜描绘第1描绘图案并进行显影;第1构图工序,将所述第1抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻去除所述光学膜,使所述透明基板的表面局部露出;剥离所述第1抗蚀剂图案,并重新涂覆第2抗蚀剂膜的工序;第2抗蚀剂图案形成工序,对所述第2抗蚀剂膜描绘第2描绘图案并进行显影,分别使所述透明基板的表面的一部分和所述光学膜的表面的一部分露出;第2构图工序,将所述第2抗蚀剂图案作为掩模,对所述光学膜进行蚀刻减膜;以及剥离所述第2抗蚀剂图案的工序,以所述第2抗蚀剂图案中的所述透明基板的露出部分成为比所述第1抗蚀剂图案中的所述透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式,对所述第2描绘图案实施了尺寸减小。
公开号  105717738A
公开日  2016-06-29
专利代理机构  北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人  李辉 于英慧
颁证日  
优先权  2014.12.17 JP 2014-254998
国际申请  
国际公布  
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