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一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品
审中-实审

申请号:201510873924.7 申请日:2015-12-01
摘要:一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品,所述制备方法包括以下步骤:A、坯体成型,向坯体表面施面釉;B、喷墨印花;C、印花后喷墨打印下陷墨水;D、淋生料厚抛釉,所述生料厚抛釉的厚抛釉粉中含有重量百分比不少于50%的SiO2和不少于12%的Al2O3;E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉,烧成获得成品。本发明提出一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法,有效的解决现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制,使陶瓷砖具备下陷纹理和仿大理石纹理,且其纹理各异,并让砖面局部区域产生下陷效果,形态各异,动静结合,凹凸有致,立体层次感更强的问题;其制备获得结合下陷纹理的仿大理石纹理新型厚釉砖,其立体层次感强、具有更逼真的下陷纹理效果。
申请人: 佛山欧神诺陶瓷股份有限公司
地址: 528138 广东省佛山市三水区乐平镇范湖工业区
发明(设计)人: 史杰 刘俊荣 蒋祥莉
主分类号: C04B41/89(2006.01)I
分类号: C04B41/89(2006.01)I
  • 法律状态
2016-02-24  实质审查的生效IPC(主分类):C04B 41/89申请日:20151201
2016-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:A、坯体成型,向坯体表面施面釉;B、喷墨印花;C、印花后喷墨打印下陷墨水;D、淋生料厚抛釉,所述生料厚抛釉的厚抛釉粉中含有重量百分比不少于50%的SiO2和不少于12%的Al2O3;E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉,烧成获得成品。
公开号  105272378A
公开日  2016-01-27
专利代理机构  北京品源专利代理有限公司 11332
代理人  巩克栋 侯潇潇
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
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