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可见光折射率传感器及其加工方法
审中-实审

申请号:201510833559.7 申请日:2015-11-25
摘要:可见光折射率传感器及其加工方法,涉及光传感器。可见光折射率传感器为3层结构,从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层。加工方法:将基片置于匀胶机中,采用旋涂的方式将紫外固化纳米压印胶均匀地涂布在基片上,烘烤后在基片上形成纳米压印胶层;将表面干净的中间聚合物软膜放在镍模板表面进行热纳米压印,得中间聚合物软模板,在中间聚合物软模板表面得到与镍模板互补的纳米结构,以中间聚合物软模板为紫外纳米压印模板,将表面涂有纳米压印胶层的基片置于纳米压印光刻系统样品台上进行紫外纳米压印,在纳米压印胶层表面得到与中间聚合物模板互补的纳米结构;用电子束蒸镀仪先蒸镀铬层,再蒸镀银层,即得可见光折射率传感器。
申请人: 厦门大学
地址: 361005 福建省厦门市思明南路422号
发明(设计)人: 朱锦锋 张丽蓉 白彦强 严爽 柳清伙
主分类号: G01N21/41(2006.01)I
分类号: G01N21/41(2006.01)I
  • 法律状态
2016-02-24  实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/41申请日:20151125
2016-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  可见光折射率传感器,其特征在于其为3层结构,从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层,所述纳米压印胶层涂布在基片的上表面,纳米压印胶层的上表面沉积均匀周期排列的微纳米金属圆孔洞阵列,铬层蒸镀在纳米压印胶层上,银层蒸镀在铬层上。
公开号  105277514A
公开日  2016-01-27
专利代理机构  厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200
代理人  马应森
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期