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自洁抗污结构和相关制造方法
审中-实审

申请号:201510369646.1 申请日:2015-06-30
摘要:提供用于抗污结构(100)的装置和相关制造方法。示例性的抗污结构(100)包含透明基材(102)和氧化层(120),所述透明基材(102)具有被配置以减少与透明基材(102)的接触的宏观结构化的表面(106),所述氧化层(120)覆盖宏观结构化的表面(106)。
申请人: 霍尼韦尔国际公司
地址: 美国新泽西州
发明(设计)人: K.R.萨马 J.F.L.施米德特
主分类号: G06F3/041(2006.01)I
分类号: G06F3/041(2006.01)I B08B11/00(2006.01)I
  • 法律状态
2017-07-21  实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 3/041申请日:20150630
2016-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  抗污结构(100),其包含:透明基材(102),其中透明基材(102)包含被配置为减少与透明基材(102)的接触的宏观结构化的表面(106);和氧化层(120),其覆盖宏观结构化的表面(106)。
公开号  105278738A
公开日  2016-01-27
专利代理机构  中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人  赵苏林 徐厚才
颁证日  
优先权  2014.07.01 US 14/320918
国际申请  
国际公布  
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