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包括自组装嵌段共聚物的膜和通过喷涂涂覆制造该膜的方法(lc)
审中-实审

申请号:201510350116.2 申请日:2015-03-31
摘要:公开了由具有式(I)的自组装二嵌段共聚物形成的膜:其中R1-R4,n和m如本文所述,其可以用于制备多孔膜。膜的实施方式含有自组装为圆柱形态的二嵌段共聚物。还公开了一种制备这种膜的方法,其包括喷涂涂覆含有二嵌段共聚物的聚合物溶液以获得薄膜,随后在溶剂蒸气中退火该薄膜层和/或在溶剂或溶剂混合物中浸泡以形成纳米多孔膜。
申请人: 帕尔公司
地址: 美国纽约
发明(设计)人: K·A-H·H·阿梅尔 A·辛格 S·施
主分类号: C08J5/18(2006.01)I
分类号: C08J5/18(2006.01)I C08J9/26(2006.01)I C08L55/00(2006.01)I
  • 法律状态
2016-02-24  实质审查的生效IPC(主分类):C08J 5/18申请日:20150331
2016-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种制备包括式(I)的二嵌段共聚物的多孔膜的方法:其中:R1是C1?C22烷基基团,可选地被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基,酰氨基和硝基的取代基取代,或C3?C11环烷基基团,可选地被选自烷基、卤素、烷氧基,烷基羰基、烷氧基羰基,酰氨基和硝基的取代基取代;R2是C6?C20的芳基基团或者杂芳基基团,可选地被选自羟基,氨基,卤素,烷氧基,烷基羰基,烷氧基羰基,酰氨基和硝基的取代基取代;R3和R4之一是C6?C14芳基基团,可选地被选自羟基,卤素,氨基和硝基的取代基取代,和R3和R4的另一个是C1?C22烷氧基基团,可选地被选自羧基,氨基,巯基,炔基,烯基,卤素,叠氮基和杂环基的取代基取代;和n和m相对独立的是约10至约2000;所述方法包括:(i)在溶剂体系里溶解所述二嵌段共聚物以获得聚合物溶液;(ii)喷涂涂覆聚合物溶液到基材上;和(iii)在包括溶剂或者溶剂混合物的蒸气里退火(ii)中获得的涂层以获得自组装结构。
公开号  105273211A
公开日  2016-01-27
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人  汪宇伟
颁证日  
优先权  2014.05.30 US 62/005,863
国际申请  
国际公布  
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