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面向透射型光学基板中吸收性缺陷深度位置的检测方法
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Method for detecting depth position of absorbing defect in facing transmission type optical substrate

申请号:201510344616.5 申请日:2015-06-19
摘要:本发明涉及一种面向透射型光学基板中吸收性缺陷深度位置的检测方法,包括:建立微米空间分辨和纳秒时间分辨的成像系统;将金属颗粒旋涂在光学基板表面,再镀制与光学基板质地类似的不同厚度的薄膜,等效将吸收性缺陷植入在光学基板的不同深度位置;利用所述成像系统拍摄相同深度位置缺陷在不同时间阶段、不同深度位置缺陷在同一时间阶段的损伤行为,建立不同深度位置缺陷的损伤行为判定标准;对实际光学基板进行缺陷深度检测,并与建立的不同深度位置缺陷损伤行为判定标准进行比对,实现吸收性缺陷的深度位置检测。与现有技术相比,本发明能对缺陷损伤特征、所在深度位置和损伤阈值等信息进行分析,具有识别精度高、实现简单的优点。
Abstract: The invention relates to a method for detecting the depth position of an absorbing defect in a facing transmission type optical substrate. The method comprises the following steps: establishing a micrometer spatial resolution and nanosecond time resolution imaging system; spin-coating metal particles on the surface of the optical substrate, plating an optical substrate material-like film with different thickness, and equivalently implanting absorbing defects in different depth positions of the optical substrate; shooting the damage behaviors of defects with a same depth position in different time periods and the damage behaviors of defects with different depth positions in a same time period by using the imaging system, and establishing the determination standard of the damage behaviors of the defects with different depth positions; and carrying out defect depth detection on a practical optical substrate, and comparing the obtained depth result with the established determination standard of the damage behaviors of the defects with different depth position to realize depth position detection of the absorbing defects. Compared with the prior art, the method allows the damage characteristics, the depth positions, the damage threshold and other information of the defects to be analyzed, and has the advantages of high identification precision and simple realization.
申请人: 同济大学
Applicant: UNIV TONGJI
地址: 200092 上海市杨浦区四平路********(隐藏)
发明(设计)人: 王占山 马彬 陆梦蕾 王可 程鑫彬
Inventor: WANG ZHANSHAN; MA BIN; LU MENGLEI; WANG KE; CHENG XINBIN
主分类号: G01N21/88(2006.01)I
分类号: G01N21/88(2006.01)I
  • 法律状态
2017-11-07  授权
2015-11-18  实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/88申请日:20150619
2015-10-14  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种面向透射型光学基板中吸收性缺陷深度位置的检测方法,该方法是针对诱导透射型光学基板损伤的吸收性缺陷深度位置的检测,其特征在于,包括以下步骤:①基于泵浦探测技术,建立微米空间分辨和纳秒时间分辨的成像系统;②将金属颗粒旋涂在光学基板表面,再镀制与光学基板质地类似的不同厚度的薄膜,等效将吸收性缺陷植入在光学基板的不同深度位置;③利用所述成像系统拍摄相同深度位置缺陷在不同时间阶段、不同深度位置缺陷在同一时间阶段的损伤行为,提取缺陷发生损伤后的特征信息,建立不同深度位置缺陷的损伤行为判定标准;④对实际光学基板进行缺陷深度检测,拍摄其损伤行为,并与建立的不同深度位置缺陷损伤行为判定标准进行比对,实现对诱导光学基板损伤的吸收性缺陷的深度位置检测。
公开号  104977303A
公开日  2015-10-14
专利代理机构  上海科盛知识产权代理有限公司 31225
代理人  翁惠瑜
颁证日  
优先权  
 
国别 优先权号 优先权日 类型
CN  201510344616  20150619 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
SEA  WO2011033234A1  20110324  1-6  全文 
SEA  CN102156133A  20110817  1-6  全文 
SEA  CN103949771A  20140730  1-6  全文 
SEA  CN103954625A  20140730  1-6  全文 
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
SEA  《J.Appl.Phys》  Ichiro Tanahashi et al.  Optical nonlinearities of Au/SiO2 composite thin films prepared by a sputtering method  1-6  第1244-1249页 
ICHIRO TANAHASHI ET AL.: "Optical nonlinearities of Au/SiO2 composite thin films prepared by a sputtering method", 《J.APPL.PHYS》 
SEA  《APPLIED OPTICS》  Jean-Yves Natoli et al.  Laser-induced damage of materials in bulk,thin-film, and liquid forms  1-6  第3156-3166页 
JEAN-YVES NATOLI ET AL.: "Laser-induced damage of materials in bulk,thin-film, and liquid forms", 《APPLIED OPTICS》 
SEA  《APPLIED PHYSICS LETTERS》  F.Bonneau et al.  Observation by photothermal microscopy of increased silica absorption in laser damage induced by gold nanoparticles  1-6  第3855-3857页 
F.BONNEAU ET AL.: "Observation by photothermal microscopy of increased silica absorption in laser damage induced by gold nanoparticles", 《APPLIED PHYSICS LETTERS》 
SEA  《Applied Physics B》  F.Bonneau et al.  Numerical simulations for description of UV laser interaction with gold nanoparticles embedded in silica  1-6  第447-452页 
F.BONNEAU ET AL.: "Numerical simulations for description of UV laser interaction with gold nanoparticles embedded in silica", 《APPLIED PHYSICS B》 
SEA  《OPTICS EXPRESS》  Jean-Yves Natoli et al.  Localized pulsed laser interaction with submicronic gold particles embedded in silica: a method for investigating laser damage initiation  1-6  第824-829页 
JEAN-YVES NATOLI ET AL.: "Localized pulsed laser interaction with submicronic gold particles embedded in silica: a method for investigating laser damage initiation", 《OPTICS EXPRESS》 
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 附加信息
同族专利
CN104977303B
 
引用文献
WO2011033234A1CN102156133ACN103949771A
CN103954625A
 
被引用文献
CN105277569ACN105424712A