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包括自组装嵌段共聚物的膜和通过喷涂涂覆制造该膜的方法(IIC)
审中-实审

申请号：201510334208.1 申请日：2015-03-31
摘要：公开了自组装嵌段共聚物形成的膜，例如，具有式(I)的二嵌段共聚物：其中R1-R4，n和m如本文所述，其可以用于制备纳米多孔膜。膜的实施方式含有自组装为圆柱形态的嵌段共聚物。同样公开了一种制备这种膜的方法，其包括喷涂涂覆含有二嵌段共聚物的聚合物溶液以获得薄膜，随后在溶剂蒸气中退火该薄膜和/或在溶剂或溶剂混合物中浸泡以形成纳米多孔膜。
申请人： 帕尔公司
地址： 美国纽约
发明(设计)人： K·A-H·H·阿梅尔 A·辛格 S·施
主分类号： C08J9/28(2006.01)I
分类号： C08J9/28(2006.01)I C08J9/26(2006.01)I C08J5/18(2006.01)I C08L53/00(2006.01)I C08F293/00(2006.01)I B01D67/00(2006.01)I B01D69/12(2006.01)I B01D71/80(2006.01)I
  • 法律状态
2016-02-24  实质审查的生效IPC(主分类):C08J 9/28申请日:20150331
2016-01-27  公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种制备包括式(I)或(II)的嵌段共聚物的多孔膜的方法：其中：R1是C1?C22烷基基团，其可选地被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基，酰氨基和硝基的取代基取代，或C3?C11环烷基基团，其可选地被选自烷基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基，酰氨基和硝基的取代基取代；R2是C6?C20的芳基基团或者杂芳基基团，其可选地被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代；R3和R4之一是C6?C14芳基基团，其可选地被选自羟基、卤素、氨基和硝基的取代基取代，和R3和R4的另一个是C1?C22烷氧基基团，其可选地被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基和杂环基的取代基取代；和n和m是相对独立的约10至约2000；所述方法包括：(i)在溶剂体系里溶解所述嵌段共聚物以获得聚合物溶液；(ii)喷涂涂覆聚合物溶液到基材上；(iii)在包括溶剂或者溶剂混合物的蒸气里退火(ii)中获得的涂层以获得自组装结构；和可选地(iv)在溶剂或者溶剂混合物中退火或者浸泡(iii)中获得的自组装结构以获得多孔膜。
公开号  105273220A
公开日  2016-01-27
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人  汪宇伟
颁证日  
优先权  2014.05.30 US 62/005,753
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利主分类号
C 化学；冶金
C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J 加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J9/00 高分子物质加工成多孔或蜂窝状制品或材料：它们的后处理
C08J9/28 从高分子的组合物或物体中去掉液相，如凝结块的干燥