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用无氟钨填充高深宽比的特征的方法
审中-实审

申请号:201510293342.1 申请日:2015-06-01
摘要:本文提供的是用无氟钨填充高深宽比的特征的方法,具体提供的是用于使用氯化钨反应剂沉积和蚀刻钨的方法和装置。该方法涉及使用氯化钨(WClx)作为前体和蚀刻剂两者。在一些实施方式中,在第一组条件下将所述衬底暴露于氯化钨(WClx)前体和还原剂以在衬底上的特征中沉积第一钨层;以及在第二组条件下将所述衬底暴露于WClx前体和所述还原剂以蚀刻所述第一钨层。根据各种实施方式,从沉积机制到蚀刻机制的转变可涉及增加WClx通量、降低温度、以及改变WClx前体中的一个或多个。还提供了相关的装置。
申请人: 朗姆研究公司
地址: 美国加利福尼亚州
发明(设计)人: 汉娜·班诺乐克 拉什纳·胡马雍 迈克尔·达内克 约瑟亚·科林斯
主分类号: H01L21/768(2006.01)I
分类号: H01L21/768(2006.01)I
  • 法律状态
2016-02-24  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/768申请日:20150601
2016-01-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种在衬底上沉积钨的方法,所述方法包括:在第一组条件下将所述衬底暴露于氯化钨(WClx)前体以及还原剂以通过化学气相沉积(CVD)在衬底上的特征中沉积第一钨层;以及在第二组条件下将所述衬底暴露于WClx前体和所述还原剂以蚀刻所述第一钨层。
公开号  105280549A
公开日  2016-01-27
专利代理机构  上海胜康律师事务所 31263
代理人  樊英如 李献忠
颁证日  
优先权  2014.05.31 US 62/006,117;2014.11.04 US 62/075,092;2015.05.27 US 14/723,353
国际申请  
国际公布  
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