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一种掩膜板及其制备方法、显示面板、显示装置
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申请号:201510242834.8 申请日:2015-05-13
摘要:本发明公开了一种掩膜板及其制备方法、显示面板、显示装置,本发明通过对掩膜板进行改进,具体地,对掩膜板的每个开口的至少部分侧切面与蒸镀时靠近基板一侧的表面的交界处设置有缺口,该缺口使用化学刻蚀或者激光切割方法实现,该缺口能够使得蒸镀时开口靠近基板一侧的面积大于开口远离基板一侧的面积,从而,增大了基板上蒸镀的膜层边缘区域的面积,提升了边缘区域的平坦化程度,避免了后续形成的金属膜层由于台阶过高而发生断裂的可能,提高了产品的良率。
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
地址: 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
发明(设计)人: 马利飞 梁逸南 皇甫鲁江
主分类号: C23C14/04(2006.01)I
分类号: C23C14/04(2006.01)I C23C14/24(2006.01)I H01L27/32(2006.01)I
  • 法律状态
2017-10-17  授权
2015-09-23  实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/04申请日:20150513
2015-08-26  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种掩膜板,用于对基板进行蒸镀,包括遮挡板,所述遮挡板上分布有若干个预设形状的开口,每个开口均由遮挡板厚度方向上侧切面包围,其特征在于,在包围所述开口的至少部分所述侧切面与蒸镀时靠近基板一侧的表面的交界处上设置有缺口,使得所述开口靠近基板一侧的面积大于所述开口远离基板一侧的面积。
公开号  104862647A
公开日  2015-08-26
专利代理机构  北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291
代理人  黄志华
颁证日  
优先权  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期