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利用旋转台的基板处理装置
审中-实审

申请号:201510087374.6 申请日:2015-02-25
摘要:一种基板处理装置,其一边在真空容器内使载置在旋转台上的圆形的基板公转一边对该基板供给处理气体并进行处理,其中,该基板处理装置包括:凹部,其为了收纳上述基板而形成于上述旋转台的一面侧;加热部,其为了将上述基板加热到600℃以上并进行处理而对上述旋转台进行加热;以及3个支承销,其在上述凹部的底面上分别位于正三角形的顶点,并分别对与基板的中心分开了该基板的半径的2/3的部位进行支承,该支承销是为了以使上述基板自该凹部的底面浮起的状态支承上述基板而设置的。
申请人: 东京毅力科创株式会社
地址: 日本东京都
发明(设计)人: 立花光博 高畠裕二 本间学
主分类号: C23C16/44(2006.01)I
分类号: C23C16/44(2006.01)I H01L21/67(2006.01)I
  • 法律状态
2016-10-12  实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44申请日:20150225
2015-08-26  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种利用旋转台的基板处理装置,其一边在真空容器内使载置在旋转台上的圆形的基板公转一边对该基板供给处理气体并进行处理,其中,该基板处理装置包括:凹部,其为了收纳上述基板而形成于上述旋转台的一面侧;加热部,其为了将上述基板加热到600℃以上并进行处理而对上述旋转台进行加热;以及6个支承销,其在上述凹部的底面上分别位于正六边形的顶点,并分别对与上述基板的中心分开了该基板的半径的2/3的部位进行支承,该支承销是为了以使上述基板自该凹部的底面浮起的状态支承上述基板而设置的。
公开号  104862668A
公开日  2015-08-26
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2014.02.25 JP 2014-034336
国际申请  
国际公布  
进入国家日期