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衬底处理装置喷头模块的滚珠丝杠喷头模块调节器组件
审中-实审

申请号:201510069731.6 申请日:2015-02-10
摘要:本发明涉及衬底处理装置喷头模块的滚珠丝杠喷头模块调节器组件,具体而言,一种半导体衬底处理装置包括用于调整装置的喷头模块的平面化的滚珠丝杠喷头模块调节器组件。该滚珠丝杠喷头调节器组件包括被支撑在顶板的阶梯开口中的套环;在套环与被至少三个可调的滚珠丝杠支撑在套环上方的调节器板之间形成气密密封的波纹管,其中该至少三个可调的滚珠丝杠能操作地相对于套环调整调节器板的平面化。绝缘套管延伸通过套管中的开口、波纹管和调节器板。喷头模块的杆通过螺母组件被支撑在绝缘套管的开口中,使得杆被支撑并对准在绝缘套管内,以便调节器板的平面化的调整借此调整喷头模块的面板的平面化。
申请人: 朗姆研究公司
地址: 美国加利福尼亚州
发明(设计)人: 埃里克·拉塞尔·马德森
主分类号: C23C16/455(2006.01)I
分类号: C23C16/455(2006.01)I
  • 法律状态
2017-02-22  实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20150210
2015-08-26  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种用于处理半导体衬底的半导体衬底处理装置,其包括:化学隔离室,在其中单个的半导体衬底被处理,其中顶板形成所述化学隔离室的上壁;与所述化学隔离室流体连通的处理气体源,其用于将处理气体供给至所述化学隔离室内;喷头模块,其将所述处理气体从所述处理气体源输送至所述处理装置的处理区,在该处理区处理所述单个的半导体衬底,其中所述喷头模块包括附连到杆的下端的基体,其中具有气体通道穿过其中的面板形成所述基体的下表面;衬底基座模块,其被配置成在所述衬底的处理过程中在所述面板下方的所述处理区中支撑所述半导体衬底;以及滚珠丝杠喷头模块调节器组件,其将所述喷头模块支撑在所述顶板中,其中所述滚珠丝杠喷头模块调节器组件能操作地相对于邻近所述面板的所述衬底基座模块的上表面调整所述喷头模块的所述面板的平面化,所述滚珠丝杠喷头模块调节器组件包括:被支撑在所述顶板的阶梯开口中的套环,其中O形环在所述套环的下表面与所述阶梯开口的水平上表面之间形成气密密封;在所述套环与被至少三个可调的滚珠丝杠支撑在所述套环上方的调节器板之间形成气密密封的波纹管,其中所述至少三个可调的滚珠丝杠能操作地相对于所述套环调整所述调节器板的所述平面化,以及延伸通过所述套环中的开口、所述波纹管和所述调节器板的绝缘套管,其中在所述绝缘套管的上端上的凸缘被固定地支撑在所述调节器板的上表面上并且O形环形成其间的气密密封;其中所述喷头模块的所述杆通过螺母组件被支撑在所述绝缘套管的阶梯开口中,所述螺母组件能操作地抵靠所述绝缘套管的圆锥形肩挤压所述螺母组件下方的所述杆的锥形/圆锥形肩,使得所述喷头模块的所述杆被固定地支撑并对准在所述绝缘套管内,以便所述调节器板的平面化的调整借此调整所述喷头模块的所述面板的所述平面化。
公开号  104862672A
公开日  2015-08-26
专利代理机构  上海胜康律师事务所 31263
代理人  樊英如 李献忠
颁证日  
优先权  2014.02.11 US 14/177,879
国际申请  
国际公布  
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