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低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材
审中-实审

申请号:201480066966.3 申请日:2014-12-11
摘要:本发明涉及低辐射涂敷膜,上述低辐射涂敷膜包括:基材;低辐射涂敷层;以及顶部涂敷层,上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。
申请人: 乐金华奥斯有限公司
地址: 韩国首尔
发明(设计)人: 柳贤祐 田允淇 权大勋
主分类号: C09D7/12(2006.01)I
分类号: C09D7/12(2006.01)I B05D1/36(2006.01)I C09D5/00(2006.01)I E06B3/00(2006.01)I
  • 法律状态
2017-01-11  实质审查的生效 IPC(主分类):C09D 7/12申请日:20141211
2016-07-27  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种低辐射涂敷膜,其特征在于,包括:基材;低辐射涂敷层;以及顶部涂敷层,所述顶部涂敷层为从所述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。
公开号  105814149A
公开日  2016-07-27
专利代理机构  北京品源专利代理有限公司 11332
代理人  吕琳 刘明海
颁证日  
优先权  2013.12.12 KR 10-2013-0154919
国际申请  2014-12-11 PCT/KR2014/012218
国际公布  2015-06-18 WO2015/088267 KO
进入国家日期  2016.06.07