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基板处理装置和基板处理方法
审中-实审

申请号:201480062816.5 申请日:2014-10-21
摘要:本发明的目的是提供一种能够在较清洁的状况下传送基板的、用于冷却基板的基板处理装置和方法。作为本发明的基板处理装置的实施方式的基板冷却装置(100)设置有室(101)、提供冷却的冷却单元(109、112)、基板保持件(103)和遮蔽件(111),基板保持件(103)具有用于将基板(S)载置于所述室的基板载置面(103a)并且基板保持件(103)被冷却单元冷却,遮蔽件(111)具有围绕所述室内的基板载置面的侧方的侧壁部并且遮蔽件(111)被冷却单元冷却。此外,在遮蔽件的内表面附近布置有遮蔽件加热器(116)。
申请人: 佳能安内华股份有限公司
地址: 日本神奈川县
发明(设计)人: 梶原雄二
主分类号: H01L21/02(2006.01)I
分类号: H01L21/02(2006.01)I C23C14/58(2006.01)I H01L21/3065(2006.01)I H01L21/677(2006.01)I H01L21/683(2006.01)I
  • 法律状态
2016-07-27  实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20141021
2016-06-29  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  一种基板处理装置,其包括:室,所述室的内部能够被抽真空;基板保持件,所述基板保持件设置在所述室的内部,并且所述基板保持件包括能够冷却基板的基板载置面;遮蔽件,所述遮蔽件设置在所述室的内部并且包括侧壁部,所述侧壁部被设置成围绕所述基板载置面的侧方;和遮蔽件冷却单元,所述遮蔽件冷却单元用于冷却所述遮蔽件。
公开号  105723496A
公开日  2016-06-29
专利代理机构  北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人  刘新宇 张会华
颁证日  
优先权  2013.11.18 JP 2013-237543
国际申请  2014-10-21 PCT/JP2014/005339
国际公布  2015-05-21 WO2015/072086 JA
进入国家日期  2016.05.17